| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目次 | 第7-9页 |
| 图表目录 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-16页 |
| ·集成电路技术简介 | 第11-14页 |
| ·反向光刻技术现状分析 | 第14-15页 |
| ·本文主要工作 | 第15-16页 |
| 2 光学邻近校正技术和反向光刻技术 | 第16-34页 |
| ·光学邻近校正技术 | 第16-17页 |
| ·反向光刻技术 | 第17-23页 |
| ·反向光刻技术背景介绍 | 第17-18页 |
| ·反向光刻问题和光刻模型 | 第18-22页 |
| ·基于梯度法的反向光刻技术流程 | 第22-23页 |
| ·反向光刻算法的惩罚项 | 第23-30页 |
| ·主要惩罚项 | 第24-25页 |
| ·离散化惩罚项 | 第25-27页 |
| ·光强空间影像惩罚项 | 第27-30页 |
| ·复杂度惩罚项 | 第30页 |
| ·其他可供参考的变量 | 第30-34页 |
| ·版图自定义权重区域 | 第30-32页 |
| ·版图固定位置区域 | 第32-34页 |
| 3 复杂度惩罚项和新的反向光刻算法 | 第34-45页 |
| ·HAAR小波变换 | 第34-36页 |
| ·局部小波惩罚项和全局小波惩罚项 | 第36-42页 |
| ·局部小波惩罚项 | 第37-38页 |
| ·全局小波惩罚项 | 第38-42页 |
| ·新的反向光刻算法 | 第42-45页 |
| 4 面向FLASH阵列的反向光刻算法和版图复杂度检测 | 第45-57页 |
| ·面向FLASH阵列的反向光刻算法 | 第45-48页 |
| ·FLASH阵列的版图复杂度检测 | 第48-51页 |
| ·Flash阵列的版图设置 | 第48-50页 |
| ·反向光刻算法设置 | 第50-51页 |
| ·面向FLASH阵列的反向光刻算法结果 | 第51-55页 |
| ·实验结果分析 | 第55-57页 |
| 5 结束语 | 第57-58页 |
| ·文章总结 | 第57页 |
| ·文章展望 | 第57-58页 |
| 6 附录A | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 个人简历 | 第64页 |