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厚膜混合集成电路封装互连材料和工艺研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第9-17页
    1.1 课题背景及研究目的第9-10页
    1.2 国内外的研究现状第10-16页
        1.2.1 厚膜混合集成电路概述第10-11页
        1.2.2 厚膜工艺概述第11-12页
        1.2.3 厚膜导体浆料概述第12-16页
    1.3 本文的主要研究内容第16-17页
第2章 实验方法与材料第17-25页
    2.1 实验过程概述第17页
    2.2 实验材料及设备说明第17-18页
        2.2.1 实验材料第17页
        2.2.2 实验设备第17-18页
    2.3 样品制备及实验方法第18-24页
        2.3.1 器件制作说明第19-20页
        2.3.2 浆料互连区微观形貌分析方法第20-21页
        2.3.3 膜层结合力实验方法第21-23页
        2.3.4 剪切强度测试方法第23-24页
    2.4 本章小结第24-25页
第3章 导体浆料互连区微观结构分析第25-53页
    3.1 成膜基板微观结构分析第25-39页
        3.1.1 浆料层的阻值规律第25-27页
        3.1.2 成膜基板正面结构第27-29页
        3.1.3 导体浆料膜层厚度第29-34页
        3.1.4 成膜基板断面结构第34-39页
    3.2 焊接后基板微观结构分析第39-52页
        3.2.1 手工焊接试件互连区分析第40-44页
        3.2.2 再流焊接试件互连区分析第44-46页
        3.2.3 汽相焊接试件互连区分析第46-48页
        3.2.4 环境实验试件互连区分析第48-52页
    3.3 本章小结第52-53页
第4章 结合力测试及分析第53-69页
    4.1 膜层附着力测试及分析第53-57页
        4.1.1 划痕法测膜层附着力第53-55页
        4.1.2 拉伸剥离实验测结合力第55-57页
    4.2 剪切力测试及分析第57-68页
        4.2.1 剪切力测试载荷分析第57-61页
        4.2.2 剪切力测试断口分析第61-65页
        4.2.3 剪切力测试典型断口第65-68页
    4.3 本章小结第68-69页
结论第69-71页
参考文献第71-75页
致谢第75页

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