摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-10页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
·研究背景及意义 | 第11-19页 |
·研究内容及创新点 | 第19-21页 |
·论文的结构与组织 | 第21-22页 |
参考文献: | 第22-25页 |
第二章 理论基础 | 第25-56页 |
·MDPhC | 第25-38页 |
·MDPhC和光子晶体的比较 | 第25-30页 |
·金属/电介质界面中的光学性质 | 第30-34页 |
·MDPhC数值模拟方法—时域有限差分法(FDTD) | 第34-38页 |
·金属/电介质界面中的SPP | 第38-46页 |
·SPP的定义及其色散关系 | 第39-41页 |
·SPP被激发 | 第41-43页 |
·SPP传播的四个特征长度 | 第43-46页 |
·TDMSHA的EOT特性物理机理—SPP共振耦合作用 | 第46-53页 |
·产生EOT现象的必要条件—TDMSHA | 第46-48页 |
·SPP与TDMSHA的耦合作用 | 第48-50页 |
·SPP在金属/电介质界面中共振耦合的散射方程 | 第50-53页 |
·小节 | 第53页 |
参考文献: | 第53-56页 |
第三章 阵列类型、周期和几何尺寸横向比例对MDPhC的EOT特性影响的研究 | 第56-81页 |
·引言 | 第56-58页 |
·TDMSHA的EOT现象 | 第58-60页 |
·MDPhC的制作 | 第60-65页 |
·器件的结构设计与主要参数定义 | 第61-62页 |
·金属和电介质材料选择 | 第62-63页 |
·工艺制作流程 | 第63-65页 |
·MDPhC的性能表征与数值模拟 | 第65-73页 |
·样品反射光谱的测量 | 第66-69页 |
·FDTD(PWM)数值模拟 | 第69-73页 |
·结果与讨论 | 第73-78页 |
·阵列类型对MDPhC的EOT特性影响 | 第73-74页 |
·阵列周期对MDPhC的EOT特性影响 | 第74-77页 |
·几何尺寸横向比例对MDPhC的EOT特性影响 | 第77-78页 |
·小结 | 第78页 |
参考文献: | 第78-81页 |
第四章 最外层金属膜厚度对M/MDPhC的EOT特性影响的研究 | 第81-108页 |
·引言 | 第81-85页 |
·双层金属膜结构(M1/M2) | 第85-88页 |
·M1/M2中金属材料的选择 | 第85-88页 |
·M1/M2中金属膜厚度影响的讨论 | 第88页 |
·M/MDPhC的制作 | 第88-91页 |
·器件的结构设计与主要参数定义 | 第88-90页 |
·银膜厚度的精确控制 | 第90页 |
·工艺制作流程 | 第90-91页 |
·M/MDPhC的性能表征与FDTD数值模拟 | 第91-99页 |
·样品透射光谱的测量 | 第92-95页 |
·FDTD数值模拟 | 第95-99页 |
·结果与讨论 | 第99-105页 |
·MDPhC与M/MDPhC的EOT特性比较 | 第99-103页 |
·银膜厚度对M/MDPhC的EOT特性影响 | 第103-105页 |
·小结 | 第105-106页 |
参考文献: | 第106-108页 |
第五章 电介质折射率及其厚度对M/D/MDPhC的EOT特性影响的研究 | 第108-134页 |
·引言 | 第108-111页 |
·金属/电介质/金属三明治结构(M/D/M) | 第111-112页 |
·金属/电介质薄膜材料的选择 | 第111-112页 |
·金属/电介质薄膜厚度的设计 | 第112页 |
·M/D/MDPhC的制作 | 第112-118页 |
·器件的结构设计与主要参数定义 | 第113-114页 |
·SiO_xN_y电介质材料的沉积 | 第114-117页 |
·工艺制作流程 | 第117-118页 |
·M/D/MDPhC透射光谱的测量 | 第118-125页 |
·结果与讨论 | 第125-130页 |
·MDPhC与M/D/MDPhC的EOT特性比较 | 第125-126页 |
·SiO_xN_y电介质厚度对M/D/MDPhC的EOT特性影响 | 第126-128页 |
·具有不同折射率的SiO_xN_y电介质对M/D/MDPhC的EOT特性影响 | 第128-130页 |
·小结 | 第130-131页 |
参考文献 | 第131-134页 |
第六章 结论 | 第134-137页 |
附件1 攻读博士学位期间发表论文一览 | 第137-138页 |
致谢 | 第138-139页 |