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MEMS金属/电介质光子晶体的强透射特性研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-10页
第一章 绪论第10-25页
   ·研究背景及意义第11-19页
   ·研究内容及创新点第19-21页
   ·论文的结构与组织第21-22页
 参考文献:第22-25页
第二章 理论基础第25-56页
   ·MDPhC第25-38页
     ·MDPhC和光子晶体的比较第25-30页
     ·金属/电介质界面中的光学性质第30-34页
     ·MDPhC数值模拟方法—时域有限差分法(FDTD)第34-38页
   ·金属/电介质界面中的SPP第38-46页
     ·SPP的定义及其色散关系第39-41页
     ·SPP被激发第41-43页
     ·SPP传播的四个特征长度第43-46页
   ·TDMSHA的EOT特性物理机理—SPP共振耦合作用第46-53页
     ·产生EOT现象的必要条件—TDMSHA第46-48页
     ·SPP与TDMSHA的耦合作用第48-50页
     ·SPP在金属/电介质界面中共振耦合的散射方程第50-53页
   ·小节第53页
 参考文献:第53-56页
第三章 阵列类型、周期和几何尺寸横向比例对MDPhC的EOT特性影响的研究第56-81页
   ·引言第56-58页
   ·TDMSHA的EOT现象第58-60页
   ·MDPhC的制作第60-65页
     ·器件的结构设计与主要参数定义第61-62页
     ·金属和电介质材料选择第62-63页
     ·工艺制作流程第63-65页
   ·MDPhC的性能表征与数值模拟第65-73页
     ·样品反射光谱的测量第66-69页
     ·FDTD(PWM)数值模拟第69-73页
   ·结果与讨论第73-78页
     ·阵列类型对MDPhC的EOT特性影响第73-74页
     ·阵列周期对MDPhC的EOT特性影响第74-77页
     ·几何尺寸横向比例对MDPhC的EOT特性影响第77-78页
   ·小结第78页
 参考文献:第78-81页
第四章 最外层金属膜厚度对M/MDPhC的EOT特性影响的研究第81-108页
   ·引言第81-85页
   ·双层金属膜结构(M1/M2)第85-88页
     ·M1/M2中金属材料的选择第85-88页
     ·M1/M2中金属膜厚度影响的讨论第88页
   ·M/MDPhC的制作第88-91页
     ·器件的结构设计与主要参数定义第88-90页
     ·银膜厚度的精确控制第90页
     ·工艺制作流程第90-91页
   ·M/MDPhC的性能表征与FDTD数值模拟第91-99页
     ·样品透射光谱的测量第92-95页
     ·FDTD数值模拟第95-99页
   ·结果与讨论第99-105页
     ·MDPhC与M/MDPhC的EOT特性比较第99-103页
     ·银膜厚度对M/MDPhC的EOT特性影响第103-105页
   ·小结第105-106页
 参考文献:第106-108页
第五章 电介质折射率及其厚度对M/D/MDPhC的EOT特性影响的研究第108-134页
   ·引言第108-111页
   ·金属/电介质/金属三明治结构(M/D/M)第111-112页
     ·金属/电介质薄膜材料的选择第111-112页
     ·金属/电介质薄膜厚度的设计第112页
   ·M/D/MDPhC的制作第112-118页
     ·器件的结构设计与主要参数定义第113-114页
     ·SiO_xN_y电介质材料的沉积第114-117页
     ·工艺制作流程第117-118页
   ·M/D/MDPhC透射光谱的测量第118-125页
   ·结果与讨论第125-130页
     ·MDPhC与M/D/MDPhC的EOT特性比较第125-126页
     ·SiO_xN_y电介质厚度对M/D/MDPhC的EOT特性影响第126-128页
     ·具有不同折射率的SiO_xN_y电介质对M/D/MDPhC的EOT特性影响第128-130页
   ·小结第130-131页
 参考文献第131-134页
第六章 结论第134-137页
附件1 攻读博士学位期间发表论文一览第137-138页
致谢第138-139页

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