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硅晶片抛光机的抛光力加载系统的设计

摘要第6-8页
abstract第8-9页
第一章 绪论第12-22页
    1.1 气动技术的概述第12页
    1.2 气动技术的发展历史第12页
    1.3 气动技术的发展趋势第12-13页
    1.4 气动技术的优缺点第13-14页
    1.5 气动伺服技术的发展历程第14页
    1.6 气动伺服技术的发展趋势第14-15页
    1.7 硅晶片抛光机的工作原理第15-17页
    1.8 硅晶片抛光机的气动加载系统的工作原理第17-18页
    1.9 气动力控制的研究现状第18-19页
    1.10 本课题的研究意义第19-20页
    1.11 论文的主要内容第20-22页
第二章 气动加载系统的设计第22-32页
    2.1 气动加载系统的初步设计第22-24页
    2.2 气动加载系统的元件选择第24-31页
        2.2.1 气动加载系统的执行元件第24-25页
        2.2.2 气动加载系统的控制元件第25-28页
        2.2.3 气动加载系统的反馈检测器第28-29页
        2.2.4 气动加载系统的气源第29-31页
    2.3 本章小结第31-32页
第三章 气动加载系统的特性研究第32-48页
    3.1 工作介质的特性分析第32-33页
    3.2 气动加载系统的电气比例阀的特性分析第33-41页
    3.3 气缸运动的非线性特性分析第41-47页
        3.3.1 气缸的摩擦力分析第41-42页
        3.3.2 气缸产生爬行的机理分析第42-43页
        3.3.3 气缸产生爬行现象的临界速度的确定第43-47页
    3.4 本章小结第47-48页
第四章 气动加载系统的数学建模第48-81页
    4.1 数学建模的概念第48页
    4.2 气动加载系统的数学模型的建立第48-80页
        4.2.1 气缸的流量连续性方程第48-55页
        4.2.2 气缸力平衡方程第55-56页
        4.2.3 气动加载系统的传递函数第56-71页
        4.2.4 气动加载系统的具体参数与数学模型第71-76页
        4.2.5 气动加载系统的特性分析第76-77页
        4.2.6 气动加载系统的稳定性分析第77-80页
    4.3 本章小结第80-81页
第五章 气动加载系统的控制策略设计和仿真第81-98页
    5.1 气动加载系统的仿真第81-82页
    5.2 气缸摩擦力的补偿第82-86页
    5.3 PID控制的气动加载系统的仿真分析第86-88页
    5.4 模糊PID控制的气动加载系统的仿真分析第88-97页
    5.5 本章小结第97-98页
第六章 总结与展望第98-100页
    6.1 总结第98-99页
    6.2 展望第99-100页
参考文献第100-104页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及取得的相关科研成果第104-105页
致谢第105-106页

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