光罩雾状缺陷检测频率的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·光刻及掩模制造技术的地位 | 第7页 |
| ·光刻技术发展 | 第7-8页 |
| ·掩模成像光刻制造技术 | 第8-10页 |
| ·掩模缺陷的检查及克服办法概述 | 第10-11页 |
| 第二章 半导体光刻中光罩雾状缺陷产生的种类 | 第11-23页 |
| ·光罩介绍 | 第11-15页 |
| ·光罩简介 | 第11-14页 |
| ·光罩的分类 | 第14页 |
| ·光罩的制造 | 第14-15页 |
| ·光罩的损伤和污染 | 第15页 |
| ·光罩成像光刻制造技术 | 第15-17页 |
| ·光罩缺陷的检查及克服办法概述 | 第17-18页 |
| ·光罩雾状缺陷的介绍 | 第18-21页 |
| ·半导体光刻中光罩雾状缺陷的种类 | 第21页 |
| ·光罩缺陷对芯片质量的影响 | 第21-23页 |
| 第三章 光罩雾状缺陷产生的原因及影响因素研究 | 第23-36页 |
| ·半导体光刻中光罩缺陷产生的原因 | 第23-26页 |
| ·光罩胶中存在的颗粒和空气中的灰尘引入的点缺陷 | 第23页 |
| ·工艺过程中的机械损(划) 伤缺陷 | 第23-24页 |
| ·光罩胶中的针孔缺陷 | 第24页 |
| ·光罩版质量引起的缺陷 | 第24页 |
| ·光罩热变形 | 第24-26页 |
| ·光罩雾状缺陷产生的原因分析 | 第26-35页 |
| ·光罩雾状缺陷的成分分析 | 第26-29页 |
| ·雾状缺陷与曝光Wafer 数目关系研究 | 第29-30页 |
| ·雾状缺陷与曝光波长的关系研究 | 第30-32页 |
| ·雾状缺陷与光罩类型的关系研究 | 第32-34页 |
| ·雾状缺陷与光罩清洗次数的关系研究 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第四章 光罩雾状缺陷的检测分析 | 第36-44页 |
| ·光罩雾状缺陷的检测频率和成本评估 | 第36-41页 |
| ·光罩检测方法介绍 | 第36-38页 |
| ·光罩雾状缺陷的检测的成本研究 | 第38-41页 |
| ·光罩雾状缺陷检测方法的应用和效果评估 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第五章 光罩雾状缺陷的预防及修复 | 第44-46页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·光罩雾状缺陷的预防方法 | 第44-46页 |
| 第六章 总结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第50页 |
