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分子印迹压电传感检测桔霉素的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
1 前言第8-22页
    1.1 真菌毒素简介第8-9页
        1.1.1 黄曲霉毒素第8页
        1.1.2 赭曲霉毒素第8页
        1.1.3 展青霉素第8页
        1.1.4 伏马菌素第8-9页
        1.1.5 玉米赤霉烯酮第9页
        1.1.6 脱氧雪腐镰刀菌烯醇第9页
    1.2 桔霉素简介第9-13页
        1.2.1 来源及其自然分布第9页
        1.2.2 基本理化性质第9页
        1.2.3 毒性作用、稳定性以及限量标准第9-10页
        1.2.4 桔霉素常用的检测方法第10-13页
    1.3 分子印迹技术第13-17页
        1.3.1 分子印迹技术概述第13页
        1.3.2 分子印迹技术的原理及制备技术第13-14页
        1.3.3 分子印迹聚合物的制备方法第14-15页
        1.3.4 分子印迹传感器第15-17页
    1.4 介孔材料第17-19页
        1.4.1 介孔材料简介第17页
        1.4.2 介孔碳第17-18页
        1.4.3 介孔碳的应用第18-19页
    1.5 金纳米颗粒第19页
    1.6 石英晶体微天平传感器的应用第19-20页
        1.6.1 微生物监测第20页
        1.6.2 药物分析中的应用第20页
        1.6.3 生物化学及分子生物学中的应用第20页
        1.6.4 与其他仪器的联用第20页
    1.7 论文的研究意义及内容第20-22页
        1.7.1 论文的研究意义第20-21页
        1.7.2 论文的研究内容第21-22页
2 材料与方法第22-27页
    2.1 实验材料和仪器第22-24页
        2.1.1 实验材料与试剂第22-23页
        2.1.2 实验仪器第23页
        2.1.3 实验主要溶液的配制第23-24页
    2.2 实验方法第24-27页
        2.2.1 AuNPs@CMK-3的合成第24页
        2.2.2 印迹电极的制备第24-25页
        2.2.3 检测方法的建立第25页
        2.2.4 实际样品的测定第25-26页
        2.2.5 液相色谱方法验证第26-27页
3 结果与讨论第27-41页
    3.1 修饰电极制备条件的优化第27-29页
        3.1.1 AuNPs@CMK-3功能复合材料修饰量的优化第27页
        3.1.2 模板分子与功能单体比例的优化第27-28页
        3.1.3 分子印迹膜电沉积圈数的优化第28-29页
        3.1.4 聚合液中加酸量的优化第29页
    3.2 修饰电极的表征第29-32页
    3.3 修饰电极的电化学行为第32-34页
    3.4 印迹电极对桔霉素的吸附性能评价第34-36页
    3.5 印迹电极的选择性和抗干扰能力第36-38页
    3.6 印迹电极的重现性和稳定性评价第38-39页
    3.7 MIP/AuNPs@CMK-3/AuE压电传感器检测方法的实际应用评价以及高效液相色谱法的验证第39-41页
4 结论第41-42页
5 展望第42-43页
6 参考文献第43-53页
7 攻读硕士学位期间发表论文情况第53-54页
8 致谢第54页

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