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CCP腔室电磁场计算及低频崩溃问题的研究

摘要第2-3页
abstract第3页
1 引言第6-12页
    1.1 研究背景及意义第6-9页
    1.2 国内外研究现状第9-10页
    1.3 本文主要的研究内容、方法第10-12页
2 等离子体腔室计算的理论第12-15页
    2.1 PECVD腔室计算的静电场理论第12页
    2.2 全Maxwell方程理论第12-14页
    2.3 频域Maxwell方程第14-15页
3 二维简化静电腔室模型的建立及验证第15-33页
    3.1 PECVD腔室计算理论第15-16页
    3.2 二维简化静电腔室模型的建立第16-23页
    3.3 二维简化静电腔室模型的验证第23-32页
        3.3.1 相应的三维腔室模型的计算第23-30页
        3.3.2 二维简化静电腔室模型的合理性的验证第30-32页
    3.4 本章小结第32-33页
4 研究CCP腔室中功率沉积均匀性的影响因素第33-44页
    4.1 CCP腔室模型计算理论第33-34页
    4.2 CCP腔室计算及结果分析第34-42页
        4.2.1 CCP腔室模型的建立第34-35页
        4.2.2 CCP腔室模型的计算及结果分析第35-42页
    4.3 本章小结第42-44页
5 基于E-λ插值的混合元法解决传统棱边元法的低频崩溃问题第44-52页
    5.1 泛函变分第44-45页
    5.2 有限元离散第45-46页
    5.3 E-λ插值法与传统法对比第46-51页
        5.3.1 E-λ插值混合元法的验证第47-51页
    5.4 本章小结第51-52页
结论第52-53页
参考文献第53-55页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第55-56页
致谢第56-58页

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