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纳米压印工艺及其在光电子芯片中的应用研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第10-22页
    1.1 引言第10页
    1.2 下一代光刻技术第10-11页
    1.3 纳米压印技术第11-19页
    1.4 本论文的研究内容第19-22页
2 压印过程聚合物变形机理分析第22-36页
    2.1 引言第22-23页
    2.2 热压印中周期性聚合物变形和填充的数值分析第23-30页
    2.3 跨尺度图形的仿真分析第30-34页
    2.4 本章小结第34-36页
3 纳米压印技术制作高精度衍射光栅的关键工艺分析第36-56页
    3.1 引言第36-37页
    3.2 高精度衍射光栅制作的关键工艺第37-42页
    3.3 基于纳米压印工艺的高精度衍射光栅制作和关键工艺研究第42-55页
    3.4 本章小结第55-56页
4 纳米压印技术在DFB激光器中的应用第56-75页
    4.1 引言第56-57页
    4.2 DFB激光器的原理第57-60页
    4.3 纳米压印制作DFB激光器的工艺研究第60-68页
    4.4 DFB激光器的性能测试第68-74页
    4.5 本章小结第74-75页
5 纳米压印技术在光子集成芯片中的应用第75-91页
    5.1 引言第75页
    5.2 光子集成器件的发展和应用第75-82页
    5.3 单片集成四通道DFB激光器阵列和4×1 MMI器件的制作和测试第82-90页
    5.4 本章小结第90-91页
6 总结与展望第91-94页
致谢第94-95页
参考文献第95-109页
附录1 攻读博士学位期间发表论文目录第109-111页

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