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纳米工艺下集成电路的容软错误技术研究

致谢第7-8页
摘要第8-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第16-25页
    1.1 课题研究背景及意义第16-22页
        1.1.1 研究内容第16-20页
        1.1.2 研究意义第20-22页
    1.2 研究现状第22-23页
    1.3 研究内容和创新点第23-24页
        1.3.1 研究内容第23-24页
        1.3.2 创新点第24页
    1.4 论文组织结构第24-25页
第二章 软错误背景知识第25-36页
    2.1 辐射环境第25-29页
        2.1.1 空间辐射环境第25-26页
        2.1.2 大气辐射环境第26-27页
        2.1.3 核辐射环境第27-28页
        2.1.4 封装材料第28页
        2.1.5 辐射的影响第28-29页
    2.2 软错误基础知识第29-32页
        2.2.1 故障、错误与失效的概念第29-30页
        2.2.2 软错误产生机理第30-32页
    2.3 瞬态故障种类第32-35页
        2.3.1 单粒子瞬态第32-33页
        2.3.2 单粒子翻转第33-34页
        2.3.3 多位翻转第34-35页
    2.4 本章小结第35-36页
第三章 软错误建模与防护技术第36-53页
    3.1 软错误建模与计算第36-40页
        3.1.1 软错误模型第36-37页
        3.1.2 双指数电流源第37页
        3.1.3 软错误率估算第37-39页
        3.1.4 SPICE模拟器简介第39-40页
    3.2 组合逻辑单元软错误防护方法第40-44页
        3.2.1 基于表决电路的软错误防护方法第40-41页
        3.2.2 基于C单元的软错误防护方法第41-42页
        3.2.3 基于CWSP单元的软错误防护方法第42-44页
    3.3 时序逻辑单元软错误加固方法第44-52页
        3.3.1 工艺级加固技术第44-46页
        3.3.2 电路级加固技术第46-51页
        3.3.3 系统级加固技术第51-52页
    3.4 本章小结第52-53页
第四章 容软错误锁存器设计第53-69页
    4.1 原理与实现第53-57页
        4.1.1 CFL-SET的电路结构和容错原理第53-55页
        4.1.2 SINV电路结构和容错原理第55-57页
    4.2 故障注入实验第57-61页
        4.2.1 CFL-SET故障注入实验第57-59页
        4.2.2 SINV故障注入实验第59-60页
        4.2.3 锁存器适用范围第60-61页
    4.3 锁存器评估和比较第61-65页
        4.3.1 鲁棒性评估第61-62页
        4.3.2 性能评估第62-65页
    4.4 蒙特卡洛实验第65-68页
        4.4.1 HSPICE中的蒙特卡洛分析第65-66页
        4.4.2 实验结果第66-68页
    4.6 本章小结第68-69页
第五章 总结与展望第69-71页
    5.1 全文总结第69页
    5.2 进一步工作第69-71页
参考文献第71-75页
攻读硕士期间的学术活动及成果情况第75页

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