摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第13-28页 |
1.1 面粉受真菌毒素污染情况的概述 | 第13-14页 |
1.2 脱氧雪腐镰刀菌烯醇的概述 | 第14-18页 |
1.2.1 DON的化学结构和理化性质 | 第14页 |
1.2.2 DON的毒性及毒性机理 | 第14-18页 |
1.3 玉米赤霉烯酮的概述 | 第18-20页 |
1.3.1 ZEN的化学结构和理化性质 | 第18页 |
1.3.2 ZEN毒性及毒性机理 | 第18-20页 |
1.4 黄曲霉毒素B_1的概述 | 第20-24页 |
1.4.1 AFB_1的化学结构和理化性质 | 第20-21页 |
1.4.2 AFB_1毒性和毒性机理 | 第21-24页 |
1.5 真菌毒素降解技术概述 | 第24页 |
1.6 紫外线在食品工业中的应用 | 第24-25页 |
1.7 臭氧在食品工业中的应用 | 第25-26页 |
1.8 本论文研究意义和内容 | 第26-28页 |
1.8.1 研究意义 | 第26页 |
1.8.2 研究内容 | 第26-28页 |
第二章 紫外线照射降解面粉中真菌毒素的研究 | 第28-44页 |
2.1 引言 | 第28页 |
2.2 材料与仪器 | 第28-29页 |
2.2.1 试验材料 | 第28页 |
2.2.2 仪器 | 第28-29页 |
2.3 实验方法 | 第29-31页 |
2.3.1 标准溶液的配制 | 第29页 |
2.3.2 DON的提取纯化和测定 | 第29-30页 |
2.3.3 ZEN的提取纯化和测定 | 第30页 |
2.3.4 AFB_1的提取纯化和测定 | 第30-31页 |
2.3.5 紫外线对面粉的处理 | 第31页 |
2.3.6 面粉基本理化值的测定 | 第31页 |
2.3.7 数据计算和分析 | 第31页 |
2.4 结果与分析 | 第31-43页 |
2.4.1 DON标准曲线 | 第31-32页 |
2.4.2 ZEN标准曲线 | 第32-33页 |
2.4.3 AFB_1标准曲线 | 第33页 |
2.4.4 面粉样品原始真菌毒素含量和水分含量 | 第33-34页 |
2.4.5 紫外照射降解面粉中DON | 第34-37页 |
2.4.6 紫外照射降解面粉中ZEN | 第37-39页 |
2.4.7 紫外照射降解面粉中AFB_1 | 第39-42页 |
2.4.8 紫外处理对面粉基本理化值的影响 | 第42-43页 |
2.5 本章小结 | 第43-44页 |
第三章 臭氧熏蒸降解面粉中真菌毒素的研究 | 第44-57页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 材料与仪器 | 第44-45页 |
3.2.1 实验材料及试剂 | 第44页 |
3.2.2 仪器 | 第44-45页 |
3.3 实验方法 | 第45-46页 |
3.3.1 标准溶液的配制 | 第45页 |
3.3.2 DON的提取纯化和测定 | 第45页 |
3.3.3 ZEN的提取纯化和测定 | 第45页 |
3.3.4 AFB_1的提取纯化和测定 | 第45页 |
3.3.5 臭氧对面粉的处理 | 第45-46页 |
3.3.6 面粉基本理化值的测定 | 第46页 |
3.3.7 数据计算和分析 | 第46页 |
3.4 结果与分析 | 第46-56页 |
3.4.1 DON标准曲线 | 第46页 |
3.4.2 ZEN标准曲线 | 第46页 |
3.4.3 AFB_1标准曲线 | 第46页 |
3.4.4 面粉样品原始真菌毒素含量和水分含量 | 第46页 |
3.4.5 臭氧熏蒸降解面粉中DON | 第46-49页 |
3.4.6 臭氧熏蒸降解面粉中ZEN | 第49-52页 |
3.4.7 臭氧熏蒸降解面粉中AFB_1 | 第52-55页 |
3.4.8 臭氧处理对面粉基本理化值的影响 | 第55-56页 |
3.5 本章小结 | 第56-57页 |
第四章 真菌降解产物及其细胞毒性初探 | 第57-71页 |
4.1 引言 | 第57页 |
4.2 材料与仪器 | 第57-58页 |
4.2.1 实验材料及试剂 | 第57-58页 |
4.2.2 仪器 | 第58页 |
4.3 实验方法 | 第58-60页 |
4.3.1 标准溶液的配制 | 第58页 |
4.3.2 DON的检测 | 第58页 |
4.3.3 ZEN的检测 | 第58-59页 |
4.3.4 AFB_1的检测 | 第59页 |
4.3.5 紫外线对毒素标准品溶液的处理 | 第59页 |
4.3.6 臭氧对毒素标准品溶液的处理 | 第59-60页 |
4.3.7 MTT法测细胞活性 | 第60页 |
4.3.8 数据计算和分析 | 第60页 |
4.4 结果与分析 | 第60-69页 |
4.4.1 紫外线和臭氧对DON标准品溶液的处理效果 | 第60-62页 |
4.4.2 紫外线和臭氧对ZEN标准品溶液的处理效果 | 第62-64页 |
4.4.3 紫外线和臭氧对AFB_1标准品溶液的处理效果 | 第64-66页 |
4.4.4 DON及其紫外降解产物、臭氧降解产物对LO2细胞活性的影响 | 第66-67页 |
4.4.5 ZEN及其紫外降解产物、臭氧降解产物对LO2细胞活性的影响 | 第67-68页 |
4.4.6 AFB_1及其紫外降解产物、臭氧降解产物对LO2细胞活性的影响 | 第68-69页 |
4.5 本章小结 | 第69-71页 |
结论与展望 | 第71-74页 |
参考文献 | 第74-83页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第83-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
答辩委员会对论文的评定意见 | 第85页 |