| 摘要 | 第1-15页 |
| ABSTRACT | 第15-21页 |
| 符号表 | 第21-23页 |
| 第一章 绪论 | 第23-44页 |
| ·概述 | 第23-24页 |
| ·Al_2O_3材料的性质及应用 | 第24-25页 |
| ·In_2O_3材料的性质及应用 | 第25-26页 |
| ·Al-In-O材料的性质及应用 | 第26-27页 |
| ·Al_2O_3、In_2O_3及Al-In-O材料体系的研究现状 | 第27-28页 |
| ·研究课题的选取 | 第28-31页 |
| 本章参考文献 | 第31-44页 |
| 第二章 实验设备及测试分析方法介绍 | 第44-66页 |
| ·常见的薄膜制备工艺 | 第44-50页 |
| ·溅射镀膜法 | 第44-46页 |
| ·分子束外延法 | 第46-48页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第48-49页 |
| ·化学气相沉积法 | 第49-50页 |
| ·金属有机化学气相淀积法 | 第50-58页 |
| ·基本原理 | 第50-51页 |
| ·系统框架 | 第51-53页 |
| ·本论文系统 | 第53-56页 |
| ·工艺流程 | 第56-58页 |
| ·测试分析方法 | 第58-62页 |
| ·结构和组分分析 | 第58-59页 |
| ·形貌测试 | 第59-60页 |
| ·厚度测量 | 第60页 |
| ·光学性质测量 | 第60页 |
| ·电学性质测量 | 第60-62页 |
| 本章参考文献 | 第62-66页 |
| 第三章 MgO(110)晶面In_2O_3薄膜的制备和性质研究 | 第66-80页 |
| ·薄膜样品的制备与衬底选取 | 第66-69页 |
| ·衬底清洗等前期准备工作 | 第66-67页 |
| ·具体制备与工艺参数 | 第67页 |
| ·In_2O_33薄膜外延衬底的筛选 | 第67-69页 |
| ·衬底温度对MgO(110)衬底In_2O_3薄膜性质的影响 | 第69-71页 |
| ·衬底温度对In_2O_3薄膜生长速率的影响 | 第69-70页 |
| ·衬底温度对In_2O_3薄膜结构性质的影响 | 第70-71页 |
| ·In_2O_3薄膜的微观结构和外延关系 | 第71-76页 |
| ·In_2O_3薄膜的光电性质 | 第76-79页 |
| ·In_2O_3薄膜的光学性质 | 第76-77页 |
| ·In_2O_3薄膜的电学性质 | 第77-79页 |
| 本章参考文献 | 第79-80页 |
| 第四章 Al_2O_3薄膜的制备和退火温度对其性质的影响 | 第80-97页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备及工艺参数 | 第80-81页 |
| ·MgO(110)衬底生长Al_2O_3薄膜的性质研究 | 第81-88页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜结构性质的影响 | 第81-83页 |
| ·Al_2O_3薄膜微观结构和外延关系 | 第83-86页 |
| ·Al_2O_3薄膜的光学性质 | 第86-88页 |
| ·MgO(111)衬底生长Al_2O_3薄膜的性质研究 | 第88-95页 |
| ·退火温度对Al_2O_3薄膜结构性质的影响 | 第88-89页 |
| ·Al_2O_3薄膜微观结构和外延关系 | 第89-93页 |
| ·Al_2O_3薄膜的光学性质 | 第93-95页 |
| 本章参考文献 | 第95-97页 |
| 第五章 Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的制备与性质研究 | 第97-123页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的制备及工艺参数 | 第97-99页 |
| ·600℃下MgO(100)衬底Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的制备与性质研究 | 第99-106页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的结构和形貌分析 | 第99-101页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的微结构分析 | 第101-103页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的光学性质 | 第103-105页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的电学性质 | 第105-106页 |
| ·600℃下MgO(110)衬底 Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的制备与性质研究 | 第106-111页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的结构性质 | 第106-108页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的光学性质 | 第108-110页 |
| ·Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的电学性质 | 第110-111页 |
| ·700℃下MgO(110)衬底Al_(2x)In_(2-2x)O_3薄膜的制备与性质研究 | 第111-121页 |
| ·薄膜的结构和组分分析 | 第111-114页 |
| ·薄膜的微结构分析 | 第114-118页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第118-121页 |
| 本章参考文献 | 第121-123页 |
| 第六章 Al-In-Sn-O(AITO)薄膜的制备和性质研究 | 第123-138页 |
| ·MgO衬底上AITO薄膜的制备及工艺参数 | 第123-124页 |
| ·MgO(100)衬底上AITO薄膜的制备与研究 | 第124-130页 |
| ·Sn含量对AITO薄膜结构性质的影响 | 第124-126页 |
| ·Sn含量对MTO薄膜光学性质的影响 | 第126-128页 |
| ·Sn含量对A1TO薄膜电学性质的影响 | 第128-130页 |
| ·MgO(110)衬底上AITO薄膜的制备与研究 | 第130-137页 |
| ·MTO薄膜结构性质的研究 | 第130-133页 |
| ·AITO薄膜光学性质的研究 | 第133-135页 |
| ·AITO薄膜电学性质的研究 | 第135-137页 |
| 本章参考文献 | 第137-138页 |
| 第七章 结论 | 第138-141页 |
| 博士期间发表论文和专利目录 | 第141-144页 |
| 致谢 | 第144-145页 |
| Paper 1 | 第145-149页 |
| Paper 2 | 第149-156页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第156页 |
