| 第一章 绪论 | 第1-30页 |
| ·微纳米加工与曝光技术 | 第8-10页 |
| ·国内外电子束曝光技术的状况和应用 | 第10-14页 |
| ·电子束曝光技术的应用及问题 | 第14-16页 |
| ·基于扫描电镜的纳米级电子束曝光系统研究的意义及存在的问题 | 第16-18页 |
| ·聚焦偏转系统的作用及其概要 | 第18-25页 |
| ·论文的选题及工作 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 第二章 聚焦偏转系统的电子光学理论 | 第30-59页 |
| ·物镜、偏转器及校正元件的空间场 | 第30-40页 |
| ·聚焦偏转系统的光学性能计算 | 第40-49页 |
| ·聚焦偏转系统的五级像差分析 | 第49-53页 |
| ·聚焦偏转系统的优化 | 第53-57页 |
| ·小结 | 第57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 JSM-35CF 电镜的电子光柱性能及相关研究 | 第59-89页 |
| ·JSM-35CF 电镜的电子光学柱结构和性能 | 第59-63页 |
| ·基于JSM-35CF 电镜的聚焦偏转系统的优化仿真计算 | 第63-69页 |
| ·偏转系统的五级像差 | 第69-72页 |
| ·磁聚焦偏转系统的涡流抑止 | 第72-77页 |
| ·几种常见静电偏转器的性能及其比较 | 第77-87页 |
| ·小结 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-89页 |
| 第四章 基于JSM-35CF 的纳米级聚焦偏转系统 | 第89-103页 |
| ·聚焦偏转系统计算 | 第89-93页 |
| ·偏转器安装调整 | 第93-94页 |
| ·精度和误差分析 | 第94-98页 |
| ·实验结果 | 第98-102页 |
| ·小结 | 第102页 |
| 参考文献 | 第102-103页 |
| 第五章 大扫描场纳米级聚焦偏转系统的探讨 | 第103-120页 |
| ·纳米级电子束曝光机聚焦偏转系统设计的一般原理 | 第103-106页 |
| ·基于VAL 原理和优化设计方法的纳米级聚焦偏转系统的研究 | 第106-115页 |
| ·双物镜双偏转器的纳米级聚焦偏转系统 | 第115-119页 |
| ·小结 | 第119页 |
| 参考文献 | 第119-120页 |
| 第六章 总结 | 第120-123页 |
| ·结论 | 第120-122页 |
| ·需进一步研究的问题 | 第122-123页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第123-124页 |
| 致谢 | 第124-126页 |
