摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-17页 |
1.1 课题来源及研究的背景意义 | 第11-12页 |
1.1.1 课题来源 | 第11页 |
1.1.2 研究背景意义 | 第11-12页 |
1.2 课题的国内外研究现状 | 第12-16页 |
1.2.1 双面研磨/抛光加工国外研究现状 | 第12-14页 |
1.2.2 双面研磨/抛光加工国内研究现状 | 第14-15页 |
1.2.3 目前国内外研究存在的问题 | 第15-16页 |
1.3 课题研究的主要内容 | 第16-17页 |
第2章 双面研磨/抛光机整机建模及结构改进 | 第17-32页 |
2.1 双面研磨/抛光机整机结构简介 | 第17-20页 |
2.1.1 本机主要技术参数 | 第18-19页 |
2.1.2 本机运行机理概述 | 第19页 |
2.1.3 本机技术特点 | 第19-20页 |
2.2 研磨抛光过程及原理 | 第20-22页 |
2.2.1 研磨/抛光机加工原理 | 第20-21页 |
2.2.2 研磨/抛光过程加载受力分析 | 第21-22页 |
2.3 双面研磨/抛光机主系统建模 | 第22-27页 |
2.3.1 升降支撑系统建模 | 第23-24页 |
2.3.2 研磨/抛光系统建模 | 第24-25页 |
2.3.3 动力传动系统建模 | 第25-26页 |
2.3.4 床身系统建模 | 第26-27页 |
2.4 双面研磨/抛光机整机建模 | 第27-28页 |
2.5 双面研磨/抛光机结构改造 | 第28-31页 |
2.5.1 升降支撑系统关键结构改造 | 第28-30页 |
2.5.2 上研磨系统关节轴承的选用 | 第30-31页 |
2.6 本章小结 | 第31-32页 |
第3章 双面研磨/抛光机关键结构动静态特性分析 | 第32-55页 |
3.1 基于有限元动静态分析前处理 | 第32-37页 |
3.1.1 有限元模型的建立 | 第32-33页 |
3.1.2 材料属性 | 第33-34页 |
3.1.3 网格划分 | 第34-35页 |
3.1.4 载荷和约束的施加 | 第35-37页 |
3.2 动静态特性分析简介 | 第37-38页 |
3.2.1 静力学分析 | 第38页 |
3.2.2 动力学分析 | 第38页 |
3.3 整机各主系统的动静态特性分析 | 第38-45页 |
3.3.1 升降支撑系统动静态特性分析 | 第38-40页 |
3.3.2 上研磨系统动静态特性分析 | 第40-42页 |
3.3.3 下研磨系统动静态特性分析 | 第42-43页 |
3.3.4 床身箱体动静态特性分析 | 第43-45页 |
3.4 关键结构优化设计 | 第45-54页 |
3.4.1 基于响应面法的目标驱动优化设计 | 第45-47页 |
3.4.2 关键零部件结构轻量化设计 | 第47-54页 |
3.5 本章小结 | 第54-55页 |
第4章 双面研磨/抛光过程运动轨迹分析研究 | 第55-69页 |
4.1 双面研磨/抛光加工机理 | 第55-56页 |
4.2 双面研磨/抛光运动轨迹模型的建立 | 第56-62页 |
4.2.1 加工中抛光盘相对工件运动轨迹模型的建立 | 第56-59页 |
4.2.2 加工中工件相对抛光盘运动轨迹模型的建立 | 第59-62页 |
4.3 双面研磨/抛光运动轨迹仿真 | 第62-67页 |
4.3.1 抛光盘相对于工件运动轨迹仿真分析 | 第62-64页 |
4.3.2 工件相对于抛光盘运动轨迹仿真分析 | 第64-67页 |
4.4 仿真轨迹分析 | 第67-68页 |
4.5 本章小结 | 第68-69页 |
第5章 双面研磨/抛光机工艺参数的优化 | 第69-80页 |
5.1 双面研磨/抛光机工艺参数优化的衡量标准 | 第69-70页 |
5.2 双面研磨/抛光去除率及抛光均匀性分析 | 第70-71页 |
5.2.1 抛光去除率分析 | 第70-71页 |
5.2.2 抛光均匀性分析 | 第71页 |
5.3 加工实验工艺参数的选择 | 第71-72页 |
5.4 试验设计 | 第72-79页 |
5.4.1 实验正交化 | 第72-73页 |
5.4.2 实验数据的记录与处理 | 第73-74页 |
5.4.3 正交试验直观分析 | 第74-76页 |
5.4.4 正交实验方差分析 | 第76-79页 |
5.5 蓝宝石实际加工实验分析 | 第79页 |
5.6 本章小结 | 第79-80页 |
结论 | 第80-82页 |
参考文献 | 第82-86页 |
攻读硕士学位期间发表的学术成果 | 第86-87页 |
致谢 | 第87页 |