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高速芯片封装技术的EMI辐射研究

致谢第4-5页
摘要第5-6页
Abstract第6页
缩略词第7-12页
第1章 绪论第12-20页
    1.1 课题背景及意义第12-16页
        1.1.1 芯片封装集成技术概述第13-14页
        1.1.2 芯片封装中的电磁兼容问题第14-16页
    1.2 国内外研究现状第16-17页
    1.3 主要拟解决问题及研究创新第17-19页
    1.4 章节安排第19-20页
第2章 EMI辐射问题的基本原理第20-27页
    2.1 芯片封装中EMI的耦合路径第20-22页
        2.1.1 传导耦合第20页
        2.1.2 电场耦合第20-21页
        2.1.3 磁场耦合第21页
        2.1.4 辐射场耦合第21-22页
    2.2 共模EMI辐射基本原理第22-26页
        2.2.1 差分线基本结构与原理第23-24页
        2.2.2 差分和共模电流的基本辐射模型第24-26页
    2.3 本章小结第26-27页
第3章 基于蘑菇状EBG结构的新型封装Lid设计第27-57页
    3.1 矩形波导谐振腔理论第28-31页
    3.2 使用EBG结构设计新型封装Lid的基本原理第31-33页
    3.3 研究EBG有效频段研究的基本方法第33-35页
        3.3.1 色散模式法第33-34页
        3.3.2 波导传输法第34-35页
        3.3.3 Floquet端口法第35页
    3.4 带有蘑菇状EBG结构的新型封装Lid第35-47页
        3.4.1 封装模型及封装Lid/介绍第35-38页
        3.4.2 带有蘑菇状EBG结构的封装Lid第38-42页
        3.4.3 等效电路建模第42-46页
        3.4.4 带有蘑菇状EBG结构的新型散热器第46-47页
    3.5 实验测试与验证第47-55页
        3.5.1 EMI辐射测试简介第47-50页
        3.5.2 测试结果及分析第50-55页
    3.6 本章小结第55-57页
第4章 针对WB-BGA封装的EMI辐射风险项研究第57-79页
    4.1 仿真模型介绍第57-58页
    4.2 WB-BGA封装中EMI辐射风险项研究第58-64页
        4.2.1 封装Lid第58-63页
        4.2.2 键合线及顶层差分走线第63页
        4.2.3 过孔第63-64页
    4.3 EMI辐射抑制方案第64-78页
        4.3.1 基于缝隙波导理论的新型封装Lid/散热器设计第65-73页
        4.3.2 阻性过孔第73-74页
        4.3.3 封装Lid接地及其改进第74-78页
    4.4 本章小结第78-79页
第5章 总结与展望第79-81页
    5.1 工作总结第79-80页
    5.2 工作展望第80-81页
参考文献第81-86页
个人简介第86-87页
主要工作及研究成果第87页

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