首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--一般性问题论文--制造工艺论文--互连及多层布线技术论文

硅基光电互连的核心技术研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章 引言第7-10页
    1.1 课题提出的背景和可行性分析第7-8页
    1.2 研究的基本目标第8-9页
    1.3 论文的组织结构第9-10页
第二章 光互连系统及硅基光电子学进展第10-22页
    2.1 光互连系统概述第10-15页
    2.2 硅基发光二极管第15-20页
        2.2.1 掺入稀土元素发光第15-16页
        2.2.2 多孔硅发光第16-17页
        2.2.3 位错环发光第17-19页
        2.2.4 PERL 太阳能电池型发光二极管第19-20页
    2.3 和CMOS 工艺兼容的光波导第20-22页
第三章 PIN 型光电互连系统第22-30页
    3.1 光源和探测器的可逆性原理第22-24页
    3.2 实验第24-29页
        3.2.1 55971 光电探测器的光互连系统第24-27页
        3.2.2 单片集成pin 型光互连系统第27-29页
    3.3 结论第29-30页
第四章 硅基发光器件的理论模型第30-40页
    4.1 速率方程模型第31-32页
    4.2 确定参数的方法第32-34页
    4.3 特性分析和参数的验证第34-36页
    4.4 hspice 建模方法第36-39页
    4.5 结论第39-40页
第五章 使用标准CMOS 工艺实现的光电互连系统第40-44页
    5.1 正八边形交错环硅基CMOS 发光器件第40-42页
    5.2 叉指型硅基CMOS 发光器件第42-44页
第六章 280dB 带宽增益积的新型高速超低噪声CMOS 光电接收机结构第44-64页
    6.1 高性能跨阻放大器的设计第44-53页
        6.1.1 常规TIA 放大器的主要缺点和不足第44-45页
        6.1.2 负反馈放大器的设计方法第45-50页
        6.1.3 低频反馈、高频开环的新结构第50-53页
    6.2 输入电流运算放大器的设计第53-54页
    6.3 提高电路的噪声特性第54-59页
        6.3.1 噪声相消原理第54-56页
        6.3.2 高频开环对提高噪声特性的影响第56-57页
        6.3.3 提高带隙基准源的电源抑制比第57-59页
    6.4 仿真测试结果第59-64页
第七章 总体单片CMOS 光电集成芯片第64-68页
    7.1 跨阻和跨导放大器电路第64-65页
    7.2 硅基光源的设计第65页
    7.3 硅基光波导第65-66页
    7.4 硅基光电探测器的设计第66-67页
    7.5 完整的硅基光电集成芯片第67-68页
第八章 总结和展望第68-69页
参考文献第69-71页
参加科研情况第71-72页
致谢第72页

论文共72页,点击 下载论文
上一篇:An Archetypal Interpretation of Holdens Rites of Initiation in the Catcher in the Rye
下一篇:蛋白质及乳液印迹海藻酸盐基微球的特异重结合行为的研究