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集成电路模块在线清洗系统的研究和设计

摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
第一章 绪论第8-14页
    1.1 集成电路技术简介第8-9页
    1.2 集成电路模块生产中的清洗技术第9-11页
    1.3 在线清洗系统研究的目的及意义第11-13页
    1.4 主要工作内容第13-14页
第二章 等离子清洗技术原理第14-22页
    2.1 等离子基础理论第14-18页
    2.2 等离子清洗简介第18-20页
    2.3 工艺气体在清洗中的作用第20-21页
    2.4 本章小结第21-22页
第三章 集成电路模块在线清洗系统总体设计第22-36页
    3.1 总体结构第22-23页
    3.2 技术要求第23-24页
    3.3 分支结构说明第24-34页
        3.3.1 等离子清洗系统设计第24-28页
        3.3.2 自动传输系统设计第28-33页
        3.3.3 设备主体第33-34页
    3.4 本章小结第34-36页
四章 集成电路模块在线清洗系统电气硬件设计第36-54页
    4.1 电气硬件系统概述第36-37页
    4.2 分支系统介绍第37-53页
        4.2.1 上位机及人机界面第37-38页
        4.2.2 PLC 系统第38-40页
        4.2.3 等离子清洗系统第40-43页
        4.2.4 伺服定位系统第43-49页
        4.2.5 气动控制系统第49-51页
        4.2.6 信号采集系统第51-53页
    4.3 本章小结第53-54页
第五章 集成电路模块在线清洗系统软件设计第54-86页
    5.1 系统运行流程分析第54-59页
        5.1.1 等离子清洗工艺流程设计第54-55页
        5.1.2 自动传输系统工作流程第55-59页
    5.2 PLC 程序设计第59-75页
        5.2.1 PLC 概述第59页
        5.2.2 CJ 系列 PL C 编程方式第59-60页
        5.2.3 PLC 控制系统软件总体设计第60-62页
        5.2.4 主要控制程序简介第62-75页
    5.3 人机界面设计第75-84页
    5.4 本章小结第84-86页
第六章 在线式等离子清洗系统总结与展望第86-90页
    6.1 系统清洗效率分析第86-87页
    6.2 系统优势分析第87-90页
致谢第90-92页
参考文献第92-94页
在读期间的研究成果第94-95页

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