首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--场效应器件论文--金属-氧化物-半导体(MOS)器件论文

应变硅MOSFET热载流子研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-11页
   ·应变硅技术应用第7-8页
   ·应变硅技术发展状况第8页
   ·应变硅MOSFET热载流子效应研究重要性第8-9页
   ·本文主要工作及任务第9-11页
第二章 应变硅技术第11-19页
   ·应变硅基本物理特性第11-12页
   ·应变硅器件类型第12-13页
   ·应变硅MOSFET基本结构第13-19页
     ·全局应变第13-14页
     ·局部应变第14-17页
     ·机械力致应变第17-19页
第三章 应变硅MOSFET热载流子效应研究第19-45页
   ·热载流子效应第19-21页
     ·衬底热载流子效应第19-20页
     ·沟道热载流子效应第20-21页
   ·热载流子效应引起的失效机理研究第21-24页
   ·热载流子效应与衬底电流第24-38页
     ·衬底电流分析第24-28页
     ·衬底电流仿真结果及分析第28-38页
   ·热载流子效应与阈值电压第38-42页
     ·阈值电压分析第39-41页
     ·阈值电压仿真结果及分析第41-42页
   ·热载流子效应与跨导第42-45页
     ·跨导分析第42-43页
     ·跨导仿真结果及分析第43-45页
第四章 LDD结构应变硅MOSFET热载流子效应研究第45-61页
   ·LDD结构应变硅MOSFET和热载流子效应第45-47页
     ·MOSFET电场和热载流子效应第45-46页
     ·LDD结构抑制热载流子效应分析第46-47页
   ·LDD结构应变硅MOSFET衬底电流模型研究及仿真结果分析第47-54页
     ·LDD结构应变硅MOSFET衬底电流模型第47-49页
     ·LDD结构应变硅MOSFET衬底电流仿真与结果分析第49-54页
   ·LDD结构应变硅MOSFET转移特性仿真与结果分析第54-56页
   ·LDD结构应变硅MOSFET输出特性仿真与结果分析第56-61页
第五章 结论与展望第61-63页
致谢第63-65页
参考文献第65-68页

论文共68页,点击 下载论文
上一篇:In AlN/GaN HEMT的研制与特性分析
下一篇:高k栅介质AlGaN/GaN MOS-HEMT器件特性研究