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基于smic 55nm eflash工艺应用于sim卡的ESD研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章 绪论第9-16页
    1.1 ESD简介第9-15页
        1.1.1 ESD的常见模式和工业测试标准第9-12页
        1.1.2 静电放电的测试[6]模式第12-14页
        1.1.3 静电放电测试方式和ESD故障[7]判断第14-15页
    1.2 SIM卡的引脚说明第15页
    1.3 论文的内容安排第15页
    1.4 本章小结第15-16页
第二章 ESD对比实验第16-24页
    2.1 SIM卡ESD设计分析第16-19页
        2.1.1 全芯片ESD设计第16-17页
        2.1.2 传统的SIM卡的ESD保护架构第17-19页
    2.2 SIM卡的ESD设计优化对比试验第19-23页
        2.2.1 优化SIM卡ESD架构第19-20页
        2.2.2 使用GC-NMOS提高ESD保护能力第20页
        2.2.3 使用金属矽化物扩散分隔制程第20-22页
        2.2.4 SIM卡ESD优化设计实验汇总第22-23页
    2.3 本章小结第23-24页
第三章 实验结果与分析第24-36页
    3.1 TLP测试结果与分析第24-35页
        3.1.1 TLP测试简介第24-26页
        3.1.2 IO脚使用GGNMOS第26-29页
        3.1.3 电源和地之间使用改进的RC Clamp第29-30页
        3.1.4 GCNMOS的TLP特性第30-32页
        3.1.5 GGNMOS的漏端覆盖sab层的TLP特性第32-35页
    3.2 本章小结第35-36页
第四章 SIM卡ESD方案第36-41页
    4.1 SIM卡ESD方案的选择第36-38页
    4.2 SIM卡ESD方案的延伸第38-40页
    4.3 本章小结第40-41页
第五章 结束语第41-43页
    5.1 主要工作与创新点第41页
    5.2 后续研究工作第41-42页
    5.3 本章小结第42-43页
参考文献第43-46页
附录1第46-53页
致谢第53-54页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第54-56页

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