摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
1 前言 | 第9-21页 |
1.1 邻苯二甲酸二异壬酯的危害及检测方法 | 第9-11页 |
1.1.1 邻苯二甲酸二异壬酯简介 | 第9页 |
1.1.2 邻苯二甲酸二异壬酯的危害 | 第9-10页 |
1.1.3 邻苯二甲酸二异壬酯检测方法的研究 | 第10-11页 |
1.2 分子印迹技术 | 第11-16页 |
1.2.1 分子印迹技术的发展史 | 第11页 |
1.2.2 分子印迹技术原理 | 第11-12页 |
1.2.3 分子印迹聚合物的制备要素 | 第12-14页 |
1.2.4 分子印迹聚合物的聚合方法 | 第14-15页 |
1.2.5 分子印迹技术的应用 | 第15-16页 |
1.3 分子印迹电化学传感器 | 第16-19页 |
1.3.1 分子印迹电化学传感器的种类 | 第17-18页 |
1.3.2 分子印迹电化学传感器的制备 | 第18-19页 |
1.3.3 分子印迹电化学传感器发展趋势 | 第19页 |
1.4 本论文的研究内容与意义 | 第19-21页 |
1.4.1 本论文的研究内容 | 第19-20页 |
1.4.2 本论文的研究意义 | 第20-21页 |
2 材料与方法 | 第21-28页 |
2.1 仪器与试剂 | 第21-23页 |
2.1.1 实验材料 | 第21页 |
2.1.2 实验主要试剂的配置 | 第21-22页 |
2.1.3 实验仪器 | 第22-23页 |
2.2 实验方法 | 第23-28页 |
2.2.1 分子印迹聚合物颗粒的制备 | 第23页 |
2.2.2 分子印迹聚合物颗粒的洗脱 | 第23-24页 |
2.2.3 DINP全波长扫描 | 第24页 |
2.2.4 DINP在乙腈溶液中的标准曲线测定 | 第24页 |
2.2.5 功能单体的选择 | 第24-25页 |
2.2.6 功能单体的优化 | 第25页 |
2.2.7 交联剂的优化 | 第25-26页 |
2.2.8 MIPs的稳定性 | 第26页 |
2.2.9 电极的预处理 | 第26页 |
2.2.10 DINP分子印迹聚合物修饰电极的制备 | 第26-27页 |
2.2.11 DINP的电化学检测和标准曲线的绘制 | 第27页 |
2.2.12 实际样品分析 | 第27-28页 |
3 结果与讨论 | 第28-45页 |
3.1 分子印迹聚合物的制备与优化 | 第28-37页 |
3.1.1 分子印迹聚合物的形貌特征 | 第28页 |
3.1.2 MIPs的洗脱效果 | 第28-29页 |
3.1.3 DINP的紫外吸收峰 | 第29页 |
3.1.4 DINP-乙腈溶液标准曲线绘制 | 第29-30页 |
3.1.5 功能单体的选择 | 第30-32页 |
3.1.6 功能单体优化结果 | 第32-33页 |
3.1.7 交联剂优化结果 | 第33-34页 |
3.1.8 MIPs颗粒的形貌特征以及洗脱前后的比较 | 第34-35页 |
3.1.9 MIP与NIP的等温吸附曲线结果 | 第35-36页 |
3.1.10 MIPs的稳定性研究 | 第36-37页 |
3.2 分子印迹电化学传感器的制备 | 第37-45页 |
3.2.1 电极的预处理 | 第37-38页 |
3.2.2 分子印迹膜的电化学表征 | 第38页 |
3.2.3 涂膜量的的优化 | 第38-40页 |
3.2.4 MIP膜吸附时间的优化 | 第40页 |
3.2.5 电化学检测溶液PH的优化 | 第40-41页 |
3.2.6 电化学分子印迹膜的选择性 | 第41-42页 |
3.2.7 电化学检测标准曲线绘制结果 | 第42-44页 |
3.2.8 实际样品分析结果 | 第44-45页 |
4 结论 | 第45-46页 |
5 展望 | 第46-47页 |
6 参考文献 | 第47-55页 |
7 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第55-56页 |
8 致谢 | 第56页 |