| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-29页 |
| ·ZnO 基本性质及应用 | 第10-14页 |
| ·ZnO 基本性质 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的缺陷 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的应用前景 | 第12-14页 |
| ·Zn-Mn-O 体系的铁磁性研究进展 | 第14-20页 |
| ·稀磁半导体发展简介 | 第14-15页 |
| ·理论研究进展 | 第15-16页 |
| ·实验研究进展 | 第16-20页 |
| ·小结 | 第20页 |
| ·p-ZnO:N 研究概况 | 第20-27页 |
| ·ZnO 的 p 型掺杂元素及其掺杂困难 | 第20-21页 |
| ·N 掺杂 ZnO 的研究概况 | 第21-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| ·本文的立题依据、研究内容及特色 | 第27-29页 |
| ·立题依据 | 第27页 |
| ·研究内容 | 第27页 |
| ·本文特色 | 第27-29页 |
| 2 ZnO:(Mn,N)薄膜的制备及表征手段 | 第29-44页 |
| ·ZnO:Mn 薄膜的制备 | 第29-34页 |
| ·射频磁控溅射的原理 | 第29-31页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第31-32页 |
| ·ZnO:Mn 薄膜的制备参数及流程 | 第32-34页 |
| ·N 离子注入及热退火 | 第34-37页 |
| ·N 离子注入原理简介 | 第34-36页 |
| ·热退火 | 第36-37页 |
| ·薄膜的表征手段 | 第37-42页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第37页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(SEM) | 第37-38页 |
| ·双光束紫外-可见光分度计 | 第38-39页 |
| ·光致发光(PL) | 第39页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第39-40页 |
| ·霍尔测试(Hall) | 第40-41页 |
| ·X 射线光电子能谱仪(XPS) | 第41-42页 |
| ·综合物性测量系统（PPMS） | 第42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 3 衬底温度对 ZnO:Mn 薄膜物性的影响 | 第44-50页 |
| ·衬底温度对薄膜结构及形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·SEM 分析 | 第44页 |
| ·XRD 分析 | 第44-45页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性质的影响 | 第45-48页 |
| ·透射谱分析 | 第45-46页 |
| ·荧光谱分析 | 第46-48页 |
| ·衬底温度对薄膜电学性质的影响 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 4 热退火对 N+注入 ZnO:Mn 薄膜物性的影响 | 第50-58页 |
| ·电学特性 | 第50-51页 |
| ·结构特性 | 第51-54页 |
| ·XRD 分析 | 第51-52页 |
| ·Raman 分析 | 第52-54页 |
| ·光学特性 | 第54页 |
| ·XPS 分析 | 第54-56页 |
| ·磁性分析 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 5 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-70页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文及科研情况 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |