厚胶光学光刻技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·光刻技术的发展概况 | 第11-16页 |
| ·厚胶光学光刻研究进展 | 第16-19页 |
| ·厚胶光学光刻技术应用 | 第19-20页 |
| ·研究目的及意义 | 第20-21页 |
| ·论文内容安排 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-29页 |
| 第二章 厚层光刻胶及其光刻工艺特点 | 第29-43页 |
| ·光刻胶及其性能评价指标 | 第29-30页 |
| ·光化学反应机理 | 第30-33页 |
| ·厚胶光刻工艺流程及其工艺特点 | 第33-40页 |
| ·本章小结 | 第40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 第三章 厚胶内衍射光场传输标量与矢量模型 | 第43-78页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·光刻胶表面空间像场分布 | 第44-48页 |
| ·角谱理论 | 第48-52页 |
| ·厚胶内衍射光场传输标量模型 | 第52-57页 |
| ·光刻胶内衍射光场标量模拟分析 | 第57-63页 |
| ·矢量衍射理论 | 第63-65页 |
| ·矢量模型基本理论 | 第65-70页 |
| ·数值模拟实例 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 第四章 光刻全过程模拟 | 第78-100页 |
| ·引言 | 第78-79页 |
| ·厚层光刻胶曝光模型 | 第79-84页 |
| ·后烘过程 | 第84-86页 |
| ·光刻胶显影模型 | 第86-89页 |
| ·显影过程实现模拟算法 | 第89-91页 |
| ·模拟实例 | 第91-97页 |
| ·本章小结 | 第97页 |
| 参考文献 | 第97-100页 |
| 第五章 厚胶光刻中工艺参数影响研究 | 第100-115页 |
| ·引言 | 第100页 |
| ·曝光光强的影响 | 第100-103页 |
| ·曝光光强影响的模拟与实验 | 第103-106页 |
| ·烘焙工艺的影响 | 第106-112页 |
| ·本章小结 | 第112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第六章 大深度连续面形的非线性畸变与校正 | 第115-132页 |
| ·引言 | 第115-116页 |
| ·非线性畸变机理 | 第116-118页 |
| ·模拟退火算法 | 第118-119页 |
| ·校正方法 | 第119-122页 |
| ·编码灰阶掩模原理 | 第122-124页 |
| ·模拟实例 | 第124-129页 |
| ·本章小结 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-132页 |
| 第七章 利用SU-8制作大深度微结构元件初步研究 | 第132-139页 |
| ·SU-8光刻胶特性 | 第132-133页 |
| ·曝光影响分析 | 第133-135页 |
| ·微齿轮与微活塞的制作 | 第135-137页 |
| ·本章小结 | 第137-138页 |
| 参考文献 | 第138-139页 |
| 第八章 总结 | 第139-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |
| 附录1 | 第142-144页 |
| 附录2 | 第144-145页 |
| 附录3 | 第145-146页 |
| 声明 | 第146页 |
