面向半导体生产线的工件聚类方法研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第13页 |
| 1.2 半导体制造过程调度问题概述 | 第13-17页 |
| 1.2.1 半导体制造过程调度的特点 | 第13-15页 |
| 1.2.2 半导体制造过程工艺流程 | 第15页 |
| 1.2.3 半导体制造系统系能指标 | 第15-17页 |
| 1.3 数据挖掘与模糊聚类国内外研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3.1 聚类算法研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3.2 模糊聚类研究现状 | 第18页 |
| 1.4 本文研究内容和创新点 | 第18-19页 |
| 1.5 论文结构安排 | 第19-21页 |
| 第二章 模糊理论及模糊C均值算法研究 | 第21-31页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.1.1 模糊理论概念 | 第21页 |
| 2.1.2 模糊理论相关运算 | 第21-22页 |
| 2.2 模糊C均值算法 | 第22-26页 |
| 2.2.1 模糊聚类方法 | 第22-23页 |
| 2.2.2 模糊C均值算法简介 | 第23-25页 |
| 2.2.3 加权指数m对模糊C均值算法影响 | 第25页 |
| 2.2.4 模糊C均值算法初始化 | 第25-26页 |
| 2.3 仿真实验结果与分析 | 第26-30页 |
| 2.4 小结 | 第30-31页 |
| 第三章 减法模糊C均值算法理论研究及其应用 | 第31-41页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 减法聚类算法 | 第31-34页 |
| 3.2.1 减法聚类原理 | 第31-32页 |
| 3.2.2 减法聚类特点 | 第32页 |
| 3.2.3 减法聚类模糊C均值结合 | 第32-34页 |
| 3.3 仿真实验结果与分析 | 第34-39页 |
| 3.4 小结 | 第39-41页 |
| 第四章 二型模糊C均值算法理论研究及其应用 | 第41-59页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 二型模糊集合基本概念 | 第41-47页 |
| 4.3 二型模糊C均值算法及其应用 | 第47-53页 |
| 4.3.1 聚类中心确定 | 第51-52页 |
| 4.3.2 去模糊化 | 第52-53页 |
| 4.4 仿真实验结果与分析 | 第53-58页 |
| 4.5 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 全文总结 | 第59页 |
| 5.2 展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第67-69页 |
| 作者和导师简介 | 第69-70页 |
| 附件 | 第70-71页 |
