| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 电子回旋脉塞的工作机理 | 第11-13页 |
| 1.3 电子光学理论的发展 | 第13-14页 |
| 1.4 各类电子枪的简介 | 第14-16页 |
| 1.5 本文的主要工作安排 | 第16-18页 |
| 第二章 电子光学系统理论分析 | 第18-31页 |
| 2.1 电子光学系统的基本理论 | 第18-23页 |
| 2.1.1 强流电子光学系统的基本方程 | 第18-19页 |
| 2.1.2 轴对称静电场和静磁场的分析 | 第19-21页 |
| 2.1.3 电子的运动方程和轨迹方程 | 第21-23页 |
| 2.2 回旋脉塞电子光学理论 | 第23-26页 |
| 2.2.1 通电线圈磁场的模拟理论 | 第24-25页 |
| 2.2.2 收敛磁场的绝热压缩作用 | 第25-26页 |
| 2.3 模拟仿真计算的介绍 | 第26-30页 |
| 2.3.1 软件介绍 | 第27页 |
| 2.3.2 时域有限差分法（FDTD） | 第27-30页 |
| 2.3.3 自洽场的求解步骤 | 第30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 W波段单阳极磁控注入电子枪设计 | 第31-49页 |
| 3.1 电子枪初始设计的基本要求 | 第32-34页 |
| 3.2 单阳极磁控注入电子枪设计 | 第34-36页 |
| 3.3 结果优化分析 | 第36-41页 |
| 3.3.1 电子注运动轨迹 | 第37页 |
| 3.3.2 电子枪区的能量转换 | 第37-39页 |
| 3.3.3 过渡区的能量转换 | 第39-41页 |
| 3.4 电子枪参数对电子注性能影响 | 第41-47页 |
| 3.4.1 电压电流对电子注性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.4.2 结构参数对电子注性能的影响 | 第43-46页 |
| 3.4.3 阴极磁场对电子注性能的影响 | 第46-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 D波段单阳极电子枪的设计优化与收集极散焦的实现 | 第49-57页 |
| 4.1 D波段单阳极磁控电子枪的设计 | 第49-50页 |
| 4.2 单阳极磁控电子枪仿真与优化结果 | 第50-52页 |
| 4.3 收集极散焦理论分析 | 第52-53页 |
| 4.4 磁场对收集极落点的影响 | 第53-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第63-64页 |