基于葵花籽粒结构仿生抛光垫的设计制造及运动场的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-21页 |
| ·选题背景 | 第12-13页 |
| ·国内外相关研究现状 | 第13-18页 |
| ·化学机械抛光运动机理的研究 | 第13-14页 |
| ·材料去除机理方面的研究 | 第14-15页 |
| ·抛光垫的研究 | 第15-18页 |
| ·本课题研究的意义 | 第18-19页 |
| ·本课题研究的目标、内容 | 第19-21页 |
| ·课题研究目标 | 第19-20页 |
| ·课题研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 仿生抛光垫的设计 | 第21-30页 |
| ·抛光垫类型 | 第21-23页 |
| ·叶序原理 | 第23-24页 |
| ·抛光垫的设计 | 第24-26页 |
| ·三维模型的建立 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 仿生抛光垫运动机理的模拟与仿真 | 第30-47页 |
| ·运动方程的建立 | 第30-33页 |
| ·相对去除率模型的建立 | 第33-35页 |
| ·普通抛光垫的模拟 | 第35-40页 |
| ·普通抛光垫轨迹的模拟 | 第35-38页 |
| ·普通抛光垫相对去除率的模拟 | 第38-40页 |
| ·仿生抛光垫的模拟 | 第40-45页 |
| ·仿生抛光垫轨迹的模拟 | 第40-43页 |
| ·仿生抛光垫相对去除率的模拟 | 第43-44页 |
| ·叶序参数对相对去除率的影响模拟 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 仿生抛光垫的制造 | 第47-59页 |
| ·抛光垫制造工艺 | 第47-54页 |
| ·浇铸法 | 第47-48页 |
| ·丝网印刷法 | 第48-51页 |
| ·制造工艺比较 | 第51页 |
| ·网印刷环境的选择 | 第51-52页 |
| ·网印刷影响因素 | 第52-54页 |
| ·抛光垫材料的选择 | 第54页 |
| ·磨料的选择 | 第54-55页 |
| ·磨料的基本要求 | 第54-55页 |
| ·常用磨料的种类 | 第55页 |
| ·抛光垫的制造 | 第55-58页 |
| ·丝网印刷工具 | 第55-56页 |
| ·抛光垫的制造 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 叶序仿生抛光垫相对去除率实验研究 | 第59-70页 |
| ·实验装置与实验材料 | 第59-62页 |
| ·实验装置 | 第59-60页 |
| ·实验材料 | 第60-62页 |
| ·实验步骤 | 第62-63页 |
| ·研磨抛光机的调配 | 第62页 |
| ·抛光垫的粘结 | 第62-63页 |
| ·单晶硅片的端面检测 | 第63-64页 |
| ·检测方法 | 第63-64页 |
| ·结论与分析 | 第64-69页 |
| ·抛光盘转速对仿生抛光垫相对去除率非均匀性的影响 | 第64-65页 |
| ·摆臂中心角对仿生抛光垫相对去除率非均匀性的影响 | 第65-66页 |
| ·摆臂摆幅对仿生抛光垫相对去除率非均匀性的影响 | 第66-68页 |
| ·叶序参数对抛光垫相对去除率非均匀性的影响 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 结论与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
