深紫外光刻复杂照明光学系统设计
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-29页 |
| ·论文研究背景及意义 | 第13-17页 |
| ·深紫外光刻照明系统概述 | 第17-18页 |
| ·光刻照明系统发展趋势 | 第18-27页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第27-29页 |
| 第2章 光刻照明系统总体方案 | 第29-45页 |
| ·非成像照明光学系统简介 | 第29-34页 |
| ·非成像光学理论概述 | 第29-30页 |
| ·光学扩展量 | 第30-32页 |
| ·远心系统 | 第32-33页 |
| ·照明方式分类 | 第33-34页 |
| ·深紫外光刻照明光源 | 第34-37页 |
| ·准分子激光光源介绍 | 第34-35页 |
| ·准分子激光光源光束特性分析 | 第35-37页 |
| ·偏振光照明技术 | 第37-40页 |
| ·偏振光照明原理 | 第37-38页 |
| ·偏振光照明在光刻系统中的应用 | 第38-40页 |
| ·照明系统总体方案 | 第40-41页 |
| ·照明系统设计参数计算 | 第41-42页 |
| ·照明系统总体设计要求 | 第41-42页 |
| ·照明系统各单元设计参数计算 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-45页 |
| 第3章 扩束单元设计 | 第45-63页 |
| ·扩束单元分类 | 第45-47页 |
| ·一维扩束单元 | 第45-47页 |
| ·二维扩束单元 | 第47页 |
| ·一维扩束单元设计 | 第47-61页 |
| ·多组元平行反射扩束镜组设计 | 第50-55页 |
| ·扩束单元出射光束均匀性提高的方法 | 第55-57页 |
| ·非平行双反射扩束镜组 | 第57-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第4章 光束整形单元设计 | 第63-87页 |
| ·OAI 技术简介 | 第63-67页 |
| ·离轴照明提高成像分辨率 | 第63-65页 |
| ·离轴照明增大焦深 | 第65-66页 |
| ·不同OAI 模式的作用 | 第66-67页 |
| ·轴锥镜组光束整形单元 | 第67-74页 |
| ·轴锥镜光束整形单元设计 | 第67-73页 |
| ·轴锥镜和塔型棱镜组合的光束整形单元 | 第73-74页 |
| ·DOE 光束整形单元设计 | 第74-83页 |
| ·DOE 光束整形单元的设计原理与方法 | 第74-76页 |
| ·基于角谱理论设计光束整形单元 | 第76-83页 |
| ·模拟仿真及结果分析 | 第83-86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| 第5章 匀光单元设计 | 第87-99页 |
| ·匀光单元分类 | 第87-89页 |
| ·蝇眼透镜阵列匀光单元设计 | 第89-98页 |
| ·透镜阵列单元匀光原理 | 第89-92页 |
| ·双排蝇眼透镜阵列匀光单元设计 | 第92-97页 |
| ·透镜阵列匀光单元仿真 | 第97-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 第6章 照明物镜设计 | 第99-109页 |
| ·照明物镜在深紫外光刻照明系统中的作用 | 第99-101页 |
| ·照明物镜减小半影效应 | 第99-101页 |
| ·远心照明物镜保证光刻系统的高分辨率 | 第101页 |
| ·照明物镜设计 | 第101-103页 |
| ·模拟仿真及结果分析 | 第103-105页 |
| ·照明系统整体设计及性能评价 | 第105-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 第7章 总结与展望 | 第109-113页 |
| ·本文的研究工作 | 第109-110页 |
| ·本文的创新之处 | 第110-111页 |
| ·本文的不足之处与工作展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-121页 |
| 在学期间学术成果 | 第121-122页 |
| 指导教师及作者简介 | 第122-123页 |
| 致谢 | 第123-124页 |
