| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| ·纳米薄膜技术的应用和发展 | 第10-11页 |
| ·原子层沉积技术概述 | 第11-19页 |
| ·等离子体概述 | 第19-26页 |
| ·本文的主要内容和创新点 | 第26-27页 |
| 第2章 脉冲调制等离子体技术 | 第27-36页 |
| ·脉冲调制等离子体技术原理 | 第27-29页 |
| ·脉冲调制射频放电的时间分辨 | 第29-31页 |
| ·气体放电击穿的数值模拟研究 | 第31-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 实验设计 | 第36-47页 |
| ·实验装置 | 第36-39页 |
| ·实验材料 | 第39页 |
| ·实验设备搭建及信号处理 | 第39-41页 |
| ·实验具体操作方法 | 第41-46页 |
| ·实验样品存放 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 结果表征及分析 | 第47-58页 |
| ·电学特性 | 第47-49页 |
| ·薄膜沉积速率 | 第49-55页 |
| ·本章小结 | 第55-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-60页 |
| ·论文总结 | 第58-59页 |
| ·未来展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |