玻璃基微流控芯片的制作及原位拉曼检测
中文摘要 | 第1-14页 |
英文摘要 | 第14-16页 |
第一章 绪论 | 第16-44页 |
·微全分析系统与微流控芯片 | 第16-18页 |
·微流控芯片的加工方法 | 第18-25页 |
·玻璃微流控芯片加工方法 | 第18-20页 |
·PDMS 芯片加工方法 | 第20-23页 |
·模塑法 | 第21-22页 |
·激光烧蚀法 | 第22-23页 |
·PMMA 芯片加工方法 | 第23-25页 |
·热压法 | 第23-24页 |
·注塑法 | 第24-25页 |
·微流控芯片的检测方法 | 第25-31页 |
·激光诱导荧光检测 | 第25-27页 |
·质谱检测 | 第27-28页 |
·电化学检测 | 第28-30页 |
·安培检测 | 第29页 |
·电导检测 | 第29-30页 |
·电位检测 | 第30页 |
·其它检测方法 | 第30-31页 |
·微流控芯片的拉曼光谱检测 | 第31-35页 |
·微流控芯片的普通拉曼光谱检测 | 第31-33页 |
·微流控芯片的表面增强拉曼光谱(SERS)检测 | 第33-35页 |
·本论文的研究目的及内容 | 第35-36页 |
参考文献 | 第36-44页 |
第二章 微流控芯片的制作 | 第44-74页 |
·引言 | 第44-47页 |
·湿法腐蚀硅和微电铸 | 第44-46页 |
·湿法腐蚀玻璃 | 第46页 |
·PDMS芯片的氧等离子体键合 | 第46-47页 |
·实验材料、试剂及仪器设备 | 第47-49页 |
·实验材料及试剂 | 第47-48页 |
·仪器设备 | 第48-49页 |
·基于湿法腐蚀硅和微电铸制备平整的PDMS基片 | 第49-60页 |
·湿法腐蚀制作硅阴模 | 第49-55页 |
·实验方法与步骤 | 第49-52页 |
·结果与讨论 | 第52-55页 |
·电铸制作镍阳模 | 第55-59页 |
·实验方法与步骤 | 第55-56页 |
·结果与讨论 | 第56-59页 |
·浇铸法制作PDMS 基微流控芯片 | 第59-60页 |
·实验方法与步骤 | 第59页 |
·结果与讨论 | 第59-60页 |
·激光直写结合湿法腐蚀制作玻璃基片 | 第60-65页 |
·实验方法与步骤 | 第60-61页 |
·结果与讨论 | 第61-65页 |
·PDMS 芯片的氧等离子体键合及进样接口集成 | 第65-69页 |
·PDMS 芯片的氧等离子体键合 | 第65-68页 |
·实验方法与步骤 | 第65-66页 |
·结果与讨论 | 第66-68页 |
·进样接口集成 | 第68-69页 |
·本章小结 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
第三章 流体扩散行为及两相酶促反应的普通拉曼研究 | 第74-92页 |
·引言 | 第74-77页 |
·微流控芯片上流体扩散行为 | 第74-75页 |
·辣根过氧化物酶催化两相反应 | 第75-77页 |
·实验材料、试剂及仪器设备 | 第77-79页 |
·实验材料与试剂 | 第77页 |
·实验仪器 | 第77-79页 |
·芯片上流体扩散行为研究 | 第79-84页 |
·红墨水/水体系扩散行为研究 | 第79-82页 |
·实验方法与步骤 | 第79页 |
·结果与讨论 | 第79-82页 |
·KSCN 水溶液/苯胺两相扩散行为监测 | 第82-84页 |
·实验方法与步骤 | 第82页 |
·结果与讨论 | 第82-84页 |
·两相体系酶催化反应的拉曼检测 | 第84-87页 |
·实验方法与步骤 | 第84-85页 |
·结果与讨论 | 第85-87页 |
·本章小结 | 第87-88页 |
参考文献 | 第88-92页 |
第四章 微反应芯片的表面增强拉曼检测 | 第92-103页 |
·引言 | 第92-94页 |
·微反应芯片 | 第92-93页 |
·微流控芯片中的SERS 活性基底 | 第93-94页 |
·实验材料、试剂及仪器设备 | 第94-95页 |
·实验试剂与材料 | 第94页 |
·实验仪器 | 第94-95页 |
·亚胺生成反应的SERS检测 | 第95-100页 |
·实验方法与步骤 | 第95-96页 |
·芯片微通道中制备具有SERS 活性银基底 | 第95-96页 |
·微反应芯片的SERS原位检测 | 第96页 |
·结果与讨论 | 第96-100页 |
·本章小结 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-103页 |
附录 | 第103-104页 |
作者攻读硕士期间发表论文 | 第104-105页 |
致谢 | 第105页 |