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高密度系统集成工艺技术研究

摘要第5-7页
abstract第7-8页
第一章 绪论第12-30页
    1.1 SIP集成工艺需求第13-18页
    1.2 SIP集成工艺国内外研究现状以及存在的差距第18-28页
        1.2.1 国外研究现状第18-26页
        1.2.2 国内研究状况第26-27页
        1.2.3 国内外存在的差距第27-28页
    1.3 本论文的选题依据和研究内容第28-30页
        1.3.1 本论文的选题依据第28-29页
        1.3.2 本论文研究的内容第29-30页
第二章 高密度系统集成工艺研究方法和技术途径第30-43页
    2.1 内埋置多层布线基板制作技术研究第30-34页
        2.1.1 内埋置多层布线基板研究工艺路线第30-33页
        2.1.2 存在的问题以及解决途径第33-34页
    2.2 芯片层叠及组装技术研究第34-36页
        2.2.1 芯片层叠组装技术工艺研究工艺路线第34-35页
        2.2.2 存在的问题以及解决途径第35-36页
    2.3 细节距芯片凸点制作研究第36-38页
        2.3.1 细节距凸点制作理论分析第36-37页
        2.3.2 存在的问题和解决途径第37-38页
    2.4 结构设计技术研究第38-43页
        2.4.1 结构设计技术理论分析第38-39页
        2.4.2 存在问题以及解决途径第39-43页
第三章 内埋置多层布线基板制作技术研究第43-60页
    3.1 多层有源芯片基板的总体设计和分析第43-51页
        3.1.1 多层有源芯片基板的总体设计第43-44页
        3.1.2 多层有源芯片基板的总体设计分析第44-51页
    3.2 工艺实验结果及分析第51-58页
        3.2.1 BCB介质固化实验及分析第51-53页
        3.2.2 BCB刻蚀实验及分析第53-55页
        3.2.3 BCB介质可靠性试验第55-56页
        3.2.4 精细引线制作实验及分析第56-57页
        3.2.5 平面滤波器实验及分析第57-58页
    3.3 小结第58-59页
    3.4 本章结论第59-60页
第四章 芯片层叠及组装技术研究第60-65页
    4.1 芯片层叠工艺实验及分析第60-64页
        4.1.1 层叠结构第60-61页
        4.1.2 芯片减薄第61页
        4.1.3 芯片层叠第61-63页
        4.1.4 低弧度引线键合第63-64页
    4.2 本章结论第64-65页
第五章 细节距凸点技术研究第65-71页
    5.1 细节距芯片凸点的设计第65-66页
    5.2 凸点制备试验结果及分析第66-68页
        5.2.1 凸点流程第66-67页
        5.2.2 版图设计第67页
        5.2.3 镀层厚度均匀性控制第67页
        5.2.4 凸点成分控制第67页
        5.2.5 焊料凸点回流第67-68页
        5.2.6 倒装焊第68页
    5.3 可靠性检测第68-70页
        5.3.1 凸点寿命试验第68-69页
        5.3.2 凸点高低温循环试验第69页
        5.3.3 凸点倒扣焊后的X射线检查第69-70页
    5.4 本章结论第70-71页
第六章 样品制作第71-75页
    6.1 样品制作第71-73页
    6.2 样品测试第73-75页
        6.2.1 方案框图第73页
        6.2.2 工艺布线对产品性能影响测试第73-74页
        6.2.3 系统功能测试第74-75页
第七章 结论第75-76页
致谢第76-77页
参考文献第77-81页

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