摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 文献综述 | 第11-22页 |
1.1 果蔬冷害的研究进展 | 第11-14页 |
1.1.1 果蔬冷害的研究概况 | 第11页 |
1.1.2 果蔬冷害的表现症状 | 第11页 |
1.1.3 影响冷害的主要因素 | 第11-12页 |
1.1.4 果蔬冷害发生的生理生化机制 | 第12-13页 |
1.1.5 减轻果蔬冷害的途径 | 第13-14页 |
1.2 褪黑素的研究与应用 | 第14-17页 |
1.2.1 褪黑素的研究概况 | 第14-15页 |
1.2.2 褪黑素的研究进展 | 第15-17页 |
1.2.3 褪黑素的作用机理探讨 | 第17页 |
1.3 黄瓜贮藏保鲜研究进展 | 第17-20页 |
1.3.1 贮藏保鲜研究概况 | 第17-18页 |
1.3.2 黄瓜的商品价值 | 第18页 |
1.3.3 黄瓜采后的生物学特性 | 第18-19页 |
1.3.4 黄瓜贮藏保鲜技术 | 第19-20页 |
1.4 本研究的意义、内容和技术路线 | 第20-22页 |
1.4.1 本研究的意义 | 第20页 |
1.4.2 本研究的内容 | 第20页 |
1.4.3 技术路线 | 第20-22页 |
第二章 褪黑素处理黄瓜贮藏期间适宜条件的确定 | 第22-29页 |
2.1 材料与方法 | 第22-23页 |
2.1.1 材料 | 第22页 |
2.1.2 方法 | 第22-23页 |
2.1.3 测定指标及方法 | 第23页 |
2.2 结果与分析 | 第23-27页 |
2.2.1 不同浓度褪黑素处理对黄瓜贮藏品质的影响 | 第23-24页 |
2.2.2 不同浸泡时间处理对黄瓜贮藏品质的影响 | 第24-25页 |
2.2.3 不同贮藏温度对黄瓜贮藏品质的影响 | 第25-27页 |
2.2.4 正交试验确定黄瓜的适宜贮藏条件 | 第27页 |
2.3 讨论 | 第27-28页 |
2.4 小结 | 第28-29页 |
第三章 外源褪黑素处理对黄瓜采后品质影响及机理研究 | 第29-40页 |
3.1 材料与方法 | 第29-30页 |
3.1.1 材料 | 第29页 |
3.1.2 方法 | 第29页 |
3.1.3 测定指标及方法 | 第29-30页 |
3.2 结果与分析 | 第30-38页 |
3.2.1 外源褪黑素处理对采后黄瓜品质参数的影响 | 第30-31页 |
3.2.2 外源褪黑素处理对采后黄瓜相对电导率的影响 | 第31页 |
3.2.3 外源褪黑素处理对采后黄瓜丙二醛含量的影响 | 第31-32页 |
3.2.4 外源褪黑素处理对采后黄瓜活性氧含量的影响 | 第32-33页 |
3.2.5 外源褪黑素处理对采后黄瓜抗氧化酶活性的影响 | 第33-35页 |
3.2.6 外源褪黑素处理对采后黄瓜呼吸强度和乙烯释放率的影响 | 第35-36页 |
3.2.7 外源褪黑素处理对采后黄瓜细菌总数和真菌总数的影响 | 第36-37页 |
3.2.8 外源褪黑素处理对采后黄瓜细胞超微结构的影响 | 第37-38页 |
3.3 讨论 | 第38-39页 |
3.4 小结 | 第39-40页 |
第四章 外源褪黑素处理对黄瓜抗冷性的影响 | 第40-48页 |
4.1 材料与方法 | 第40-41页 |
4.1.1 材料 | 第40页 |
4.1.2 方法 | 第40页 |
4.1.3 测定指标及方法 | 第40-41页 |
4.2 结果与分析 | 第41-46页 |
4.2.1 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜感官品质的影响 | 第41页 |
4.2.2 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜冷害指数的影响 | 第41-42页 |
4.2.3 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜失重率的影响 | 第42页 |
4.2.4 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜相对电导率的影响 | 第42-43页 |
4.2.5 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜丙二醛的影响 | 第43页 |
4.2.6 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜可溶性蛋白含量的影响 | 第43-44页 |
4.2.7 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜维生素C含量的影响 | 第44页 |
4.2.8 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜呼吸强度的影响 | 第44-45页 |
4.2.9 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜超氧阴离子生成速率的影响 | 第45页 |
4.2.10 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜过氧化氢含量的影响 | 第45-46页 |
4.2.11 外源褪黑素处理对低温条件下黄瓜脯氨酸含量的影响 | 第46页 |
4.3 讨论 | 第46-47页 |
4.4 小结 | 第47-48页 |
第五章 结论、创新点与展望 | 第48-49页 |
5.1 结论 | 第48页 |
5.2 创新点 | 第48页 |
5.3 展望 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
作者简介 | 第60页 |