| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-25页 |
| ·概述 | 第10-12页 |
| ·ZnO 的结构及薄膜的优点 | 第12-14页 |
| ·ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的性质及应用研究 | 第14-19页 |
| ·ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的性质 | 第14-18页 |
| ·ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的应用 | 第18-19页 |
| ·ZnO 薄膜的光致发光研究状况 | 第19-24页 |
| ·ZnO 薄膜的光致发光 | 第20-22页 |
| ·掺杂ZnO 薄膜的光致发光 | 第22-24页 |
| ·研究内容及目的 | 第24-25页 |
| 2 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的制备 | 第25-31页 |
| ·ZnO 薄膜的制备技术及进展 | 第25-27页 |
| ·磁控溅射工艺(Megnetron Sputtering) | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第25-26页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第26页 |
| ·金属有机化合物气相沉积（MOCVD） | 第26页 |
| ·溶胶-凝胶（Sol-Gel） | 第26-27页 |
| ·反应磁控溅射法 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射机理 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射沉积的特点 | 第28页 |
| ·直流反应磁控溅射法的优势 | 第28页 |
| ·ZnO 薄膜及ZnO：Sb 薄膜的制备过程 | 第28-30页 |
| ·实验设备与仪器 | 第28-29页 |
| ·实验工艺 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 3 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的表征与分析 | 第31-38页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第31-32页 |
| ·透射率的测试 | 第32-33页 |
| ·物体微结构X 射线衍射测定 | 第33-35页 |
| ·光致荧光光谱的测试 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 4 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的结构和光学性能研究 | 第38-51页 |
| ·氧气浓度对薄膜性能的影响 | 第38-43页 |
| ·氧气浓度对薄膜沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| ·氧气浓度对薄膜微结构的影响 | 第39-40页 |
| ·氧气浓度对薄膜透射率的影响 | 第40-42页 |
| ·氧气浓度对薄膜光学带隙的影响 | 第42-43页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第43-47页 |
| ·退火温度对薄膜微结构的影响 | 第44-45页 |
| ·退火温度对薄膜透射率的影响 | 第45-46页 |
| ·退火温度对薄膜光学带隙的影响 | 第46-47页 |
| ·掺杂浓度对薄膜性能的影响 | 第47-49页 |
| ·掺杂浓度对薄膜微结构的影响 | 第47-48页 |
| ·掺杂浓度对薄膜透射率的影响 | 第48-49页 |
| ·掺杂浓度对薄膜光学带隙的影响 | 第49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 5 ZnO：Sb 薄膜的光致发光性能 | 第51-57页 |
| ·掺杂浓度对薄膜光致发光性质的影响 | 第51-52页 |
| ·退火处理对薄膜光致发光性质的影响 | 第52-53页 |
| ·氧气浓度对薄膜光致发光特性的影响 | 第53-54页 |
| ·可见光发射机理初探 | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 6 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |