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转印方法中的率相关效应及内聚区模型研究

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
第1章 引言第8-18页
   ·研究背景第8-13页
     ·柔性硅基半导体器件结构第8-11页
     ·动力控制转印方法第11-13页
   ·研究现状与存在问题第13-16页
   ·本文的研究目的和主要内容第16-18页
第2章 转印过程中薄膜/图章界面的率相关行为第18-34页
   ·实验过程与结果第18-20页
     ·实验过程第18-19页
     ·实验结果第19-20页
   ·含内聚力单元的有限元模拟框架的建立第20-28页
     ·含有内聚力单元的有限元格式第20-22页
     ·内聚力本构关系第22-24页
     ·图章的粘弹性本构第24-25页
     ·硅的损伤萌生与演化本构第25页
     ·内聚力单元的验证第25-27页
     ·模拟撕起过程的有限元模型第27-28页
   ·有限元模拟结果及讨论第28-32页
     ·硅条剥离过程中的应力分布与演化第28-29页
     ·剥离速度对转印效率的影响第29-31页
     ·PDMS 图章粘弹性参数对转印效率的影响第31-32页
   ·本章小结第32-34页
第3章 剥离构型中界面断裂能的角度相关性第34-48页
   ·剥离构型中界面断裂能与剥离速度和角度相关的机理第34-36页
     ·界面断裂能与剥离速度相关的机理第34-36页
     ·界面断裂能与剥离角度相关的机理第36页
   ·粘弹性薄膜/刚体界面剥离试验的有限元模拟第36-37页
     ·有限元模型第36-37页
     ·有限元模拟结果与讨论第37页
   ·不同剥离角度下的聚丙烯胶带/聚甲基丙烯酸甲酯界面剥离试验第37-47页
     ·剥离试验原理第37-39页
     ·剥离试验装置第39-42页
     ·样品准备与实验过程第42-44页
     ·实验结果与分析第44-45页
     ·实验结果与有限元模拟的对比第45-47页
   ·本章小结第47-48页
第4章 由弹性体/刚体剥离试验反演内聚参数的理论框架第48-57页
   ·弹性体/刚体界面剥离力的推导第48-54页
     ·问题描述第48页
     ·求解思路第48-49页
     ·对界面分离位移和内聚力分量的正负号的规定第49页
     ·推导过程第49-54页
   ·多项式形式的内聚本构第54-55页
     ·现有的内聚本构在表达模态混合的断裂能量方面的不足第54-55页
     ·多项式形式的内聚本构第55页
   ·反演框架简述第55-56页
   ·本章小结第56-57页
第5章 总结与展望第57-59页
   ·工作总结第57-58页
   ·未来工作展望第58-59页
参考文献第59-64页
致谢第64-65页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第65页

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