| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 注释表 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 硬脆材料脆塑转变机理国内外研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 化学机械抛光技术国内外研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3.1 化学机械抛光的概述 | 第13-14页 |
| 1.3.2 固结磨料 CMP 研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4 低温抛光技术进展 | 第16-17页 |
| 1.5 本文研究目的、意义与主要内容 | 第17-19页 |
| 1.5.1 研究目的与意义 | 第17页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 高清显示面板玻璃脆塑转变条件研究 | 第19-31页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 磨粒去除经典模型 | 第19-21页 |
| 2.2.1 Preston 模型 | 第19-20页 |
| 2.2.2 单颗粒微观去除模型 | 第20-21页 |
| 2.3 纳米压痕法研究高清显示面板玻璃的力学性能 | 第21-26页 |
| 2.3.1 实验方法 | 第21-25页 |
| 2.3.2 实验结果与分析 | 第25-26页 |
| 2.4 纳米划痕法研究高清显示面板玻璃的脆塑转变条件 | 第26-30页 |
| 2.4.1 实验方法 | 第26-27页 |
| 2.4.2 实验结果与分析 | 第27-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 高清显示面板玻璃固结磨料研磨实验研究 | 第31-45页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 研磨实验设备与耗材 | 第31-35页 |
| 3.2.1 研磨抛光试验台 | 第31-32页 |
| 3.2.2 表面检测设备 | 第32页 |
| 3.2.3 研磨垫的制备 | 第32-33页 |
| 3.2.4 研磨液成份分析 | 第33-34页 |
| 3.2.5 承载盘的制备 | 第34-35页 |
| 3.3 研磨工艺参数优化 | 第35-43页 |
| 3.3.1 实验 | 第35-36页 |
| 3.3.2 实验设计 | 第36-37页 |
| 3.3.3 极差分析 | 第37-41页 |
| 3.3.4 方差分析 | 第41-42页 |
| 3.3.5 工艺参数的综合优化 | 第42页 |
| 3.3.6 优化工艺验证及机理分析 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 高清显示面板玻璃冰冻固结磨料抛光工艺与机理分析 | 第45-61页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 抛光设备与检测仪器 | 第45-46页 |
| 4.2.1 抛光机制冷系统 | 第45页 |
| 4.2.2 表面形貌表征方法检测仪器 | 第45-46页 |
| 4.3 冰冻固结磨料抛光盘的制备 | 第46-49页 |
| 4.3.1 冰冻模具材料的选取 | 第46-47页 |
| 4.3.2 冰冻模具的设计 | 第47-48页 |
| 4.3.3 冰冻固结磨料抛光盘的制备工艺 | 第48-49页 |
| 4.4 冰冻固结磨料抛光高清显示面板实验研究 | 第49-57页 |
| 4.4.1 实验准备 | 第49-50页 |
| 4.4.2 实验设计方案 | 第50-51页 |
| 4.4.3 极差分析 | 第51-56页 |
| 4.4.4 硅溶胶抛光方差分析 | 第56页 |
| 4.4.5 冰冻硅溶胶抛光盘实验优化与验证 | 第56-57页 |
| 4.5 冰冻固结磨料抛光高清显示面板抛光实验机理分析 | 第57-59页 |
| 4.5.1 高清显示面板玻璃表面材料去除量构成 | 第57-58页 |
| 4.5.2 化学-机械作用机理 | 第58-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 总结 | 第61-62页 |
| 5.2 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第69页 |
