| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 三维微纳结构研究背景 | 第11页 |
| 1.2 三维结构微纳加工方法研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 FIB加工技术及其研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4 本文的研究目的与内容 | 第14-16页 |
| 第二章 聚焦离子束辐照诱导的薄膜卷曲应变加工技术 | 第16-24页 |
| 2.1 前言 | 第16页 |
| 2.2 离子束诱导二维纳米薄膜应变规律与机制 | 第16-20页 |
| 2.2.1 FEI Helios 600i双束系统 | 第16-17页 |
| 2.2.2 悬空的金纳米薄膜的制备 | 第17-18页 |
| 2.2.3 FIB辐照诱导的纳米薄膜结构的卷曲形变规律 | 第18-20页 |
| 2.2.4 FIB扫描辐照诱导卷曲形变的机制讨论 | 第20页 |
| 2.3 大面积卷曲结构的可控制备 | 第20-23页 |
| 2.3.1 制备手段 | 第20-21页 |
| 2.3.2 扫描离子剂量对卷曲结构形貌的影响 | 第21-22页 |
| 2.3.3 悬臂梁长度对卷曲结构形貌的影响 | 第22页 |
| 2.3.4 大面积卷曲结构的制备 | 第22-23页 |
| 2.4 小结 | 第23-24页 |
| 第三章 基于FIB技术的三维等离激元光学超材料的结构加工及物性研究 | 第24-38页 |
| 3.1 前言 | 第24-25页 |
| 3.2 制备工艺 | 第25-28页 |
| 3.2.1 FIB线扫描模式下二维薄膜的形变现象 | 第25页 |
| 3.2.2 FIB刻蚀深度剂量对二维薄膜折叠应变角度的影响 | 第25-26页 |
| 3.2.3 大面积多角度多次折叠的复杂微纳结构阵列的大面积制备 | 第26-28页 |
| 3.3 三维等离激元结构的光学特性研究 | 第28-36页 |
| 3.3.1 微窗结构的设计 | 第28-29页 |
| 3.3.2 微窗结构的测试 | 第29-30页 |
| 3.3.3 微窗结构的仿真设计 | 第30-32页 |
| 3.3.4 微窗结构的电场分析 | 第32-34页 |
| 3.3.5 共振响应频率的调制 | 第34-36页 |
| 3.3.6 实验验证 | 第36页 |
| 3.4 小结 | 第36-38页 |
| 第四章 基于FIB技术的纳米通道的制备及研究 | 第38-51页 |
| 4.1 前言 | 第38-39页 |
| 4.2 纳米通道的制备方法 | 第39-41页 |
| 4.2.1 Si衬底上的多材料体系纳米线的制备 | 第39-40页 |
| 4.2.2 FIB-CVD诱导的纳米通道的制备 | 第40-41页 |
| 4.3 纳米形成机制的讨论及可控性研究 | 第41-49页 |
| 4.3.1 kirkendall效应介绍 | 第41-42页 |
| 4.3.2 基于离子辐照的kirkendall效应机制讨论 | 第42-44页 |
| 4.3.3 纳米通道成型过程中的尺寸效应 | 第44-45页 |
| 4.3.4 不同纳米线材料对纳米通道的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.5 不同沉积金属及沉积条件对纳米通道形成的影响 | 第46页 |
| 4.3.6 热处理基于FEB-CVD W样品对纳米通道形成的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.7 复杂图形的制备 | 第48-49页 |
| 4.4 小结 | 第49-51页 |
| 第五章 总结和展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 附录 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
