| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·节能镀膜玻璃的研究概况 | 第12-18页 |
| ·节能原理 | 第12-14页 |
| ·主要性能指标 | 第14-17页 |
| ·分类 | 第17-18页 |
| ·镀膜技术简介 | 第18-21页 |
| ·真空蒸发法 | 第18-19页 |
| ·电浮法 | 第19页 |
| ·溅射法 | 第19-20页 |
| ·凝胶浸镀法 | 第20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·喷涂法 | 第21页 |
| ·TiN薄膜的研究现状 | 第21-25页 |
| ·晶体结构 | 第21-23页 |
| ·化学计量比研究状况 | 第23-24页 |
| ·机械性能和物理性能 | 第24页 |
| ·应用研究现状 | 第24-25页 |
| ·课题提出及研究意义 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-33页 |
| ·样品制备 | 第27-31页 |
| ·实验设备及原料 | 第27-29页 |
| ·实验设备 | 第27-29页 |
| ·实验原料 | 第29页 |
| ·实验步骤 | 第29-30页 |
| ·载玻片预处理 | 第29页 |
| ·TiN薄膜沉积步骤 | 第29-30页 |
| ·TiN薄膜热处理步骤 | 第30页 |
| ·样品的系列沉积参数 | 第30-31页 |
| ·样品的测试与分析手段 | 第31-33页 |
| ·X射线衍射仪 | 第31页 |
| ·薄膜亲水性测试 | 第31页 |
| ·场发射扫描电镜 | 第31-32页 |
| ·X射线能量散射谱 | 第32页 |
| ·UV/Vis分光光度计 | 第32页 |
| ·四探针电阻测试仪 | 第32-33页 |
| 第三章 制备参数对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第33-59页 |
| ·沉积温度对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第33-42页 |
| ·沉积温度对薄膜成分、形貌和结构的影响 | 第33-39页 |
| ·沉积温度对薄膜的导电性和光学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·沉积时间对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第42-51页 |
| ·沉积时间对薄膜成分、形貌和结构的影响 | 第42-48页 |
| ·沉积时间对薄膜的导电性和光学性能的影响 | 第48-51页 |
| ·冷却方式对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第51-55页 |
| ·冷却方式对薄膜成分、形貌和结构的影响 | 第51-53页 |
| ·冷却方式对薄膜的导电性和光学性能的影响 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-59页 |
| 第四章 热处理工艺对对薄膜成分、形貌和光电性能的影响 | 第59-87页 |
| ·热处理温度对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第59-69页 |
| ·热处理温度对薄膜成分、形貌和结构的影响 | 第59-66页 |
| ·热处理温度对薄膜导电性和光学性能的影响 | 第66-69页 |
| ·热处理时间对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第69-79页 |
| ·热处理时间对薄膜成分、形貌和结构的影响 | 第70-76页 |
| ·热处理时间对薄膜导电性和光学性能的影响 | 第76-79页 |
| ·热处理气氛对薄膜成分、结构和光电性能的影响 | 第79-84页 |
| ·热处理气氛对薄膜成分、形貌和结构的影响 | 第79-83页 |
| ·热处理气氛对薄膜导电性和光学性能的影响 | 第83-84页 |
| ·小结 | 第84-87页 |
| 第五章 结论 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 个人简历 | 第94-95页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第95页 |