射频反应溅射法制备SnO2薄膜及其工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题背景和意义 | 第10-13页 |
| ·SnO_2 薄膜在气敏器件上的应用 | 第10-12页 |
| ·SnO_2 薄膜在电子领域的应用 | 第12-13页 |
| ·SnO_2 薄膜在玻璃工业上的应用 | 第13页 |
| ·国内外SnO_2 薄膜研究状况 | 第13-16页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 SnO_2薄膜的理论基础及制备方法 | 第17-25页 |
| ·SnO_2 透明导电薄膜结构和性能 | 第17-19页 |
| ·SnO_2 透明导电薄膜的结构 | 第17-18页 |
| ·SnO_2 透明导电薄膜的光电特性 | 第18页 |
| ·SnO_2 透明导电薄膜的气敏特性 | 第18-19页 |
| ·SnO_2 透明导电薄膜的湿敏特性 | 第19页 |
| ·SnO_2 薄膜的制备方法 | 第19-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| ·喷涂热解法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积法 | 第21-22页 |
| ·物理气相沉积法 | 第22-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 射频反应溅射法制备SnO_2薄膜 | 第25-36页 |
| ·射频反应溅射技术及其特点 | 第25-29页 |
| ·溅射机理 | 第25-27页 |
| ·射频反应溅射技术的特点 | 第27-29页 |
| ·磁控镀膜装置及溅射系统 | 第29-31页 |
| ·射频反应溅射镀膜工艺操作流程 | 第31-32页 |
| ·溅射工艺对薄膜质量的影响 | 第32-35页 |
| ·溅射总压强对薄膜质量的影响 | 第32-33页 |
| ·氧分压对SnO_2 薄膜质量的影响 | 第33-34页 |
| ·溅射靶电压对薄膜质量的影响 | 第34页 |
| ·靶与基板之间距离对SnO_2 薄膜的影响 | 第34页 |
| ·退火温度对SnO_2 薄膜的影响 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 SnO_2薄膜的测试及实验结果分析 | 第36-47页 |
| ·SnO_2 薄膜的测试 | 第36-41页 |
| ·SnO_2 薄膜的结构和表面形貌分析 | 第36-37页 |
| ·SnO_2 薄膜光电性能的测定 | 第37-40页 |
| ·SnO_2 薄膜成分的测定 | 第40-41页 |
| ·SnO_2 薄膜测试结果和分析 | 第41-46页 |
| ·退火处理对表面形貌影响 | 第41-42页 |
| ·退火处理对薄膜结晶程度的影响 | 第42-43页 |
| ·退火处理对SnO_2 薄膜可见光透射率的影响 | 第43-44页 |
| ·氧分压对薄膜导电性能的影响 | 第44-45页 |
| ·SnO_2 薄膜能谱分析 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
