多探针广域表面形貌测量方法及探针制备
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 光刻胶涂布方法及涂覆特点 | 第11-13页 |
| 1.3 表面形貌测量技术概述 | 第13-15页 |
| 1.3.1 接触式测量法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 非接触式测量法 | 第14-15页 |
| 1.4 探针的发展及应用 | 第15-18页 |
| 1.5 研究目的及组织结构 | 第18-19页 |
| 2 广域光-接触多探针测量方法 | 第19-32页 |
| 2.1 AFM测量原理 | 第19-21页 |
| 2.2 广域光-接触多探针测量原理 | 第21-24页 |
| 2.3 广域光-接触多探针测量系统组成 | 第24-28页 |
| 2.3.1 光学测量部分 | 第26页 |
| 2.3.2 接触多探针 | 第26-27页 |
| 2.3.3 辅助装置 | 第27-28页 |
| 2.4 光-接触多探针测量方法的测量实验 | 第28-31页 |
| 2.4.1 标准刻槽测量实验 | 第29-30页 |
| 2.4.2 半透明薄膜测量实验 | 第30-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 3 误差分离法在多探针广域表面形貌测量中的应用 | 第32-41页 |
| 3.1 误差分离技术 | 第32页 |
| 3.2 数学模型的建立 | 第32-36页 |
| 3.2.1 多探针扫描方法原理 | 第33页 |
| 3.2.2 数据处理 | 第33-36页 |
| 3.3 应用实例 | 第36-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 独立多探针的制备 | 第41-58页 |
| 4.1 探针的尺寸设计 | 第42-45页 |
| 4.1.1 硅片厚度 | 第42页 |
| 4.1.2 反光层材质及厚度 | 第42页 |
| 4.1.3 探针的材质、形状和尺寸 | 第42-43页 |
| 4.1.4 弹性膜的材质、厚度及尺寸 | 第43-45页 |
| 4.2 实验材料与设备 | 第45页 |
| 4.3 探针的制备工艺 | 第45-54页 |
| 4.3.1 氧化 | 第47页 |
| 4.3.2 光刻 | 第47-50页 |
| 4.3.3 湿法腐蚀 | 第50-53页 |
| 4.3.4 溅射 | 第53-54页 |
| 4.3.5 PECVD | 第54页 |
| 4.4 探针参数测量 | 第54-57页 |
| 4.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 5 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58页 |
| 5.2 展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
