晶体表面的离子束刻蚀机理研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题研究的背景 | 第9页 |
| 1.2 晶体表面的抛光技术 | 第9-15页 |
| 1.2.1 直接接触抛光技术 | 第9-11页 |
| 1.2.2 准接触抛光技术 | 第11-13页 |
| 1.2.3 非接触抛光技术 | 第13-15页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.1 硫化锌、KDP晶体的抛光研究现状 | 第15页 |
| 1.3.2 离子束刻蚀抛光研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 本文的主要研究内容和章节安排 | 第16-17页 |
| 2 离子束刻蚀抛光与晶体表面质量的评价 | 第17-24页 |
| 2.1 离子束刻蚀抛光 | 第17-21页 |
| 2.1.1 工艺研究方案及技术路线 | 第17-18页 |
| 2.1.2 离子束刻蚀抛光平台 | 第18-21页 |
| 2.2 晶体表面质量的评价 | 第21-22页 |
| 2.2.1 晶体表面质量的评价 | 第21页 |
| 2.2.2 晶体表面质量的检测 | 第21-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-24页 |
| 3 离子束刻蚀抛光工艺研究 | 第24-42页 |
| 3.1 离子束刻蚀抛光的机理 | 第24-25页 |
| 3.2 离子束刻蚀抛光石英的实验结果与分析 | 第25-29页 |
| 3.2.1 石英样片的制备 | 第25页 |
| 3.2.2 离子束入射能量参数实验结果与分析 | 第25-27页 |
| 3.2.3 氩气流量参数实验结果与分析 | 第27-29页 |
| 3.3 离子束刻蚀抛光硫化锌晶体的实验结果与分析 | 第29-37页 |
| 3.3.1 硫化锌样片的选取 | 第29-30页 |
| 3.3.2 离子束入射能量参数实验结果与分析 | 第30-32页 |
| 3.3.3 离子束流参数实验结果与分析 | 第32-34页 |
| 3.3.4 离子束入射角度参数实验结果与分析 | 第34-35页 |
| 3.3.5 氩气氧气流量参数实验结果与分析 | 第35-37页 |
| 3.4 离子束刻蚀抛光KDP晶体的实验结果与分析 | 第37-41页 |
| 3.4.1 KDP样片的选取 | 第37页 |
| 3.4.2 离子束入射能量参数实验结果与分析 | 第37-39页 |
| 3.4.3 离子束流参数实验结果与分析 | 第39-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 4 离子束沉积修正抛光工艺研究 | 第42-57页 |
| 4.1 离子束沉积修正抛光的机理 | 第42-43页 |
| 4.2 KDP晶体的离子束沉积修正抛光 | 第43-56页 |
| 4.2.1 平坦化层的制备 | 第43-44页 |
| 4.2.2 平坦化层的减薄 | 第44-54页 |
| 4.2.3 KDP的离子束沉积修正抛光 | 第54-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 5.1 结论 | 第57-58页 |
| 5.2 后期展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
