基于DMD无掩模数字光刻机的研究与设计
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 光刻技术的发展 | 第10-11页 |
1.2 无掩模光刻技术的研究现状 | 第11-15页 |
1.3 基于DMD的数字光刻的研究现状 | 第15-19页 |
1.4 论文的研究目的内容 | 第19-20页 |
参考文献 | 第20-24页 |
第二章 基于DMD的数字光刻系统设计 | 第24-45页 |
2.1 系统的总体构架 | 第24-25页 |
2.2 LED照明系统 | 第25-30页 |
2.3 掩模生成 | 第30-34页 |
2.4 投影物镜 | 第34-37页 |
2.5 自动调平调焦检测系统 | 第37-40页 |
2.6 工件台部分 | 第40-41页 |
2.7 软件控制 | 第41-42页 |
2.8 本章小结 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-45页 |
第三章 系统的装调与性能测试 | 第45-57页 |
3.1 系统装调过程 | 第46-51页 |
3.2 光刻实验 | 第51-56页 |
参考文献 | 第56-57页 |
第四章 系统误差分析 | 第57-70页 |
4.1 光路系统引入的误差 | 第57-61页 |
4.2 成像系统引入的误差 | 第61-66页 |
4.3 倾角误差的影响 | 第66-68页 |
4.4 本章小结 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-70页 |
第五章 总结与展望 | 第70-71页 |
5.1 总结 | 第70页 |
5.2 展望 | 第70-71页 |
攻读硕士期间的学术成果 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-73页 |