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半导体制造中嵌套性工艺参数的统计过程控制研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-15页
第一章 绪论第15-19页
    1.1 统计过程控制技术的发展第15-16页
    1.2 研究背景与意义第16-17页
    1.3 国内外研究现状第17页
    1.4 本文主要的研究内容第17-19页
第二章 SPC的理论基础与嵌套性检验第19-33页
    2.1 SPC的理论基础第19-22页
        2.1.1 基本概念第19-21页
        2.1.2 SPC的理论基础第21-22页
    2.2 嵌套性检验第22-32页
        2.2.1 单因素方差分析(one-way ANOVA)的模型与条件第23页
        2.2.2 单因素方差分析的方法第23-25页
        2.2.3 嵌套性检验的方法与步骤第25-27页
        2.2.4 实例说明第27-32页
    2.3 本章小结第32-33页
第三章 一阶嵌套控制图第33-45页
    3.1 一阶嵌套模型第33-36页
        3.1.1 一阶嵌套模型及常见错误第33-34页
        3.1.2 实例说明第34-36页
    3.2 一阶嵌套“均值-标准偏差“控制图第36-42页
        3.2.1 一阶嵌套均值控制图第36-40页
        3.2.2 一阶嵌套标准偏差控制图第40-41页
        3.2.3 一阶嵌套“均值-标准偏差”控制图的绘制步骤第41页
        3.2.4 实例说明第41-42页
    3.3 一阶嵌套“均值-极差”控制图第42-44页
        3.3.1 均值控制图第42页
        3.3.2 极差控制图第42-43页
        3.3.3 一阶嵌套“均值-极差”控制图的绘制步骤第43页
        3.3.4 实例说明第43-44页
    3.4 本章小结第44-45页
第四章 二阶嵌套控制图第45-71页
    4.1 二阶嵌套模型第45-47页
    4.2 二阶嵌套控制图的组成第47-48页
    4.3 子批均值统计过程控制第48-55页
        4.3.1 M_(xbar)-S_(xbar)控制图第48-52页
        4.3.2 M_(xbar)-R_(xbar)控制图第52-54页
        4.3.3 两种控制图的对比第54-55页
    4.4 子批标准偏差的统计过程控制第55-67页
        4.4.1 M_s-S_s控制图第55-63页
        4.4.2 M_s-R_s控制图第63-67页
        4.4.3 两种控制图的对比第67页
    4.5 二阶嵌套控制图诊断功能说明第67-69页
        4.5.1 诊断功能说明第68页
        4.5.2 实例说明第68-69页
    4.6 本章小结第69-71页
第五章 软件工具说明第71-77页
    5.1 软件工具界面介绍第71-72页
    5.2 软件工具的操作第72-75页
        5.2.1 打开数据文件第72-73页
        5.2.2 数据读取第73页
        5.2.3 绘制相应的控制图第73-74页
        5.2.4 生成SPC报告第74-75页
    5.3 本章小结第75-77页
第六章 全文总结第77-79页
    6.1 本文的主要贡献第77页
    6.2 后续工作展望第77-79页
参考文献第79-81页
附表 一第81-83页
致谢第83-85页
作者简介第85-86页

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