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铁电/半导体异质结二维电子气的特性研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-17页
   ·GaN 材料的起源第11-13页
   ·GaN 材料为基的HEMT 器件应用背景和发展现状第13-14页
   ·铁电/半导体异质结构的研究现状第14-15页
   ·目前的问题第15-16页
   ·本文主要工作第16-17页
第二章 铁电/半导体异质结二维电子气的电荷控制模型第17-34页
   ·铁电/半导体异质结的极化效应第17-26页
     ·Ⅲ族氮化物的极化效应第17-21页
       ·三元化合物的晶格常数第18-19页
       ·III 族氮化物的非线性自发极化和压电极化第19-21页
     ·铁电体的极化效应第21-22页
     ·极化诱导表面或界面电荷第22-23页
     ·极化诱导2DEGs 的面密度第23-26页
   ·电荷控制模型第26-33页
     ·铁电体的极化强度第26-27页
     ·AlxGa1-xN 材料的极化强度第27-28页
     ·一维 Poisson-Schr?dinger 方程第28-29页
     ·一维Poisson-Schr?dinger 方程的求解第29-33页
   ·本章小结第33-34页
第三章 铁电/半导体异质结二维电子气的计算结果第34-50页
   ·引言第34-35页
   ·铁电/GaN——MFS 结构第35-40页
     ·铁电极化强度的影响第35-38页
     ·介电常数的影响第38-39页
     ·不同栅压下的影响第39-40页
   ·铁电/AlGaN/GaN——MFIS 结构第40-42页
     ·铁电层厚度的影响第41页
     ·铁电极化强度的影响第41-42页
   ·AlGaN/GaN/铁电双异质结结构第42-46页
   ·单轴应变AlGaN/GaN 结构第46-48页
   ·本章小结第48-50页
第四章 铁电/半导体异质结2DEG 的迁移率模型第50-67页
   ·引言第50-51页
   ·极化诱导AlGaN/GaN 器件2DEGs第51-54页
     ·极化对电荷的传输特性和散射机制的影响第51-52页
     ·2DEG 迁移率的实验数据第52-53页
     ·铁电/AlGaN/GaN 异质结2DEG 迁移率的理论计算第53-54页
   ·散射机制第54-66页
     ·AlGaN/GaN 异质结典型结构第54-55页
     ·散射机制第55-66页
       ·声学声子第55-56页
       ·光学声子第56页
       ·合金散射第56-59页
       ·界面粗糙散射第59-60页
       ·电离杂质散射第60-61页
       ·偶极子散射第61-64页
       ·位错散射第64-66页
   ·本章小结第66-67页
第五章 铁电/半导体异质结2DEG 的迁移率特性第67-83页
   ·各散射机制对铁电/半导体结构2DEG 迁移率的贡献第67-77页
     ·温度及2DEG 浓度对迁移率的影响第68-72页
     ·铁电/半导体异质结结构中材料参数对迁移率的影响第72-75页
     ·极化对铁电/半导体异质结结构中2DEG 迁移率的影响第75-77页
   ·应变对GaN/BTO 结构中2DEG 迁移率的影响第77-80页
   ·理论计算与实验结果的对比第80-82页
   ·本章小结第82-83页
第六章 总结第83-85页
致谢第85-86页
参考文献第86-92页
攻读硕士期间研究的成果第92-93页

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