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Cu/Sn等温凝固键合在MEMS气密封装中的应用研究

中文摘要第1-4页
Abstract第4-8页
第一章 引言第8-22页
   ·MEMS封装技术概述第8-15页
     ·MEMS气密封装的实现方法与应用第9-11页
     ·MEMS封装中的键合技术第11-15页
   ·等温凝固原理第15-18页
   ·Cu/Sn二元等温凝固体系第18-21页
   ·小结第21-22页
第二章 铜锡等温凝固薄膜及气密环结构的设计与制造第22-26页
   ·铜锡等温凝固薄膜的设计第22-24页
     ·衬底材料的选择第22页
     ·薄膜的厚度及工艺参数设计第22-24页
   ·铜锡等温凝固薄膜的制作第24页
   ·气密环的设计与制作第24-26页
第三章 等温凝固薄膜的键合工艺及微结构分析第26-47页
   ·键合质量的检测方法第26-27页
     ·剪切强度测试第26-27页
     ·X-射线方法第27页
     ·金相方法第27页
     ·扫描电子显微镜方法第27页
   ·等离子体清洗原理简介第27-29页
   ·薄膜的键合工艺第29-31页
   ·键合条件的优化第31-41页
     ·等离子体清洗参数的选择第31-38页
     ·键合气氛的影响第38-39页
     ·键合压力的影响第39-40页
     ·锡层厚度的影响第40-41页
   ·铜锡等温凝固键合微结构分析第41-46页
   ·小结第46-47页
第四章 铜锡等温凝固结构气密性检测第47-52页
   ·气密性检测标准第47-49页
     ·氦气细检第47-48页
     ·氟油粗检第48-49页
   ·气密性能检测第49-52页
     ·密封腔体结构参数第49页
     ·气密检测步骤第49-50页
     ·检测结果及讨论第50-52页
第五章 论文总结第52-53页
附件第53-54页
附录 键合参数优化时样品的剪切强度值第54-56页
参考文献第56-60页
文章发表第60-61页
作者简介第61-62页
致谢第62页

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