首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--半导体器件制造工艺及设备论文--光刻、掩膜论文

激光干涉光刻的极限尺寸研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·光刻技术概述第7-11页
   ·激光干涉光刻的发展趋势和现状第11页
   ·课题研究的目的和意义第11-12页
   ·本文研究的主要内容和结构安排第12-13页
第二章 激光干涉光刻技术第13-19页
   ·激光干涉光刻理论基础第13-14页
   ·激光干涉光刻分类第14-18页
   ·小结第18-19页
第三章 直接激光干涉光刻实验系统设计第19-25页
   ·直接激光干涉光刻第19页
   ·干涉光刻系统需求第19-22页
   ·双光束干涉光路搭建第22-23页
   ·衬底准备第23页
   ·样品检测第23-24页
   ·小结第24-25页
第四章 光刻结构特征尺寸的影响因素的模拟实验研究第25-32页
   ·波长对特征尺寸的影响第25-27页
   ·能量密度对特征尺寸的影响第27-28页
   ·偏振方向对特征尺寸的影响第28-29页
   ·入射角对特征尺寸的影响第29-30页
   ·脉冲数对特征尺寸的影响第30-31页
   ·小结第31-32页
第五章 基于改变能量密度的极限尺度研究及结果分析第32-40页
   ·实验设计思想第32页
   ·实验过程及结果分析第32-38页
   ·实验误差分析第38-39页
   ·小结第39-40页
第六章 总结及展望第40-42页
   ·总结第40页
   ·展望第40-42页
致谢第42-43页
参考文献第43-44页

论文共44页,点击 下载论文
上一篇:NixMg1-xO薄膜的制备技术研究
下一篇:硅微通道阵列氧化绝缘技术及应力问题研究