| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-14页 |
| ·课题研究意义 | 第7-9页 |
| ·NiO的性质 | 第9-10页 |
| ·NiO薄膜的研究现状 | 第10-12页 |
| ·本论文的研究工作 | 第12-14页 |
| 第二章 薄膜的制备方法 | 第14-21页 |
| ·溅射法 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积 | 第15-16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第17-18页 |
| ·原子层沉积 | 第18-19页 |
| ·分子束外延技术 | 第19-20页 |
| ·喷雾热分解法 | 第20-21页 |
| 第三章 实验设备、原理及步骤 | 第21-26页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·实验原理 | 第22-24页 |
| ·实验步骤 | 第24-26页 |
| 第四章 磁控溅射制备为掺杂的NiO薄膜 | 第26-32页 |
| ·氧化镍陶瓷靶的制备 | 第26-27页 |
| ·衬底的清洗 | 第27页 |
| ·磁控溅射制备未掺杂氧化镍薄膜性质 | 第27-32页 |
| 第五章 不同Mg掺杂含量的Ni_xMg_(1-x)O薄膜制备及性质研究 | 第32-41页 |
| ·Mg掺杂元素的理论研究 | 第32-35页 |
| ·不同Mg含量下Ni_xMg_(1-x)O薄膜结构性质 | 第35-37页 |
| ·不同Mg含量下Ni_xMg_(1-x)O薄膜晶粒尺寸 | 第37-38页 |
| ·不同Mg含量下Ni_xMg_(1-x)O薄膜透射光谱 | 第38-39页 |
| ·不同Mg含量下Ni_xMg_(1-x)O薄膜带隙 | 第39-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 硕士期间的主要研究工作以及取得的研究成果 | 第45页 |
