目录 | 第1-4页 |
图目录 | 第4-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 SMIF微环境造成的产品缺陷 | 第8-14页 |
·集成电路工艺集成度的发展 | 第8-10页 |
·高集成度下SMIF微环境技术的应用 | 第10-12页 |
·课题引出—SMIF微环境造成的产品缺陷 | 第12-14页 |
第二章 SMIF微环境的构成与特性 | 第14-25页 |
·SMIF微环境的构成 | 第14-15页 |
·SMIF微环境的工艺要求 | 第15-16页 |
·SMIF微环境的优点 | 第16-19页 |
·SMIF容器(SMIF-Pod)的构造 | 第19-20页 |
·SMIF容器的构成及其材料 | 第19-20页 |
·SMIF微环境内部气流特性的研究 | 第20-24页 |
·200mm SMIF微环境内气流对微粒运动影响的研究 | 第20-22页 |
·300mm SMIF微环境内气流对微粒运动影响的研究 | 第22-24页 |
·本章小结 | 第24-25页 |
第三章 SMIF微环境内污染粒子产生的研究 | 第25-40页 |
·SMIF微环境动作解析 | 第25-26页 |
·实验环境及量测方法的说明 | 第26-28页 |
·实验环境介绍 | 第26-27页 |
·缺陷检测机台介绍 | 第27页 |
·污染粒子的测量与计算 | 第27-28页 |
·SMIF微环境内污染粒子产生的实验研究 | 第28-38页 |
·实验架构 | 第28-29页 |
·SMIF容器(Pod)支架与芯片接触次数实验与分析 | 第29-30页 |
·SMIF容器(Pod)支架材质实验与分析 | 第30-33页 |
·SMIF容器(Pod)支架年限实验与分析 | 第33-34页 |
·SMIF微环境内部风速流量实验与分析 | 第34-35页 |
·SMIF微环境内部风压实验与分析 | 第35页 |
·SMIF机械手臂移动速度实验与分析 | 第35-36页 |
·晶片在SMIF容器中存放时间的实验与分析 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第四章、产品验证与成品率改善 | 第40-49页 |
·实验条件的产品验证 | 第40-41页 |
·晶片支架材质改变产品验证 | 第41-43页 |
·不同材质支架的进阶实验 | 第42页 |
·支架不同材质之产品验证 | 第42-43页 |
·SMIF内部风速最佳为0.4m/s之分析结果 | 第43-44页 |
·SMIF内部风压最佳为360kPa之分析结果 | 第44页 |
·晶片在SMIF容器中存放时间的分析 | 第44-45页 |
·生产操作规范的制定与实际效果 | 第45-49页 |
第五章、总结与展望 | 第49-51页 |
·总结 | 第49-50页 |
·未来工作展望 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-53页 |
致谢 | 第53-54页 |