| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 集成电路EDA技术 | 第6-16页 |
| ·集成电路产业与EDA技术 | 第6-12页 |
| ·前言 | 第6页 |
| ·EDA技术的发展 | 第6-7页 |
| ·ESDA技术的基本特征 | 第7-9页 |
| ·EDA技术的基本设计方法 | 第9-12页 |
| ·我国EDA技术现状 | 第12页 |
| ·DFM和RET技术介绍 | 第12-16页 |
| ·可制造性设计技术(DFM) | 第12-13页 |
| ·分辨率增强技术(RET) | 第13-16页 |
| 第二章 光刻工艺与OPC技术 | 第16-23页 |
| ·前言 | 第16页 |
| ·OPC的工作原理 | 第16-18页 |
| ·OPC技术的优势 | 第18页 |
| ·光刻模型 | 第18-21页 |
| ·掩模制备 | 第19页 |
| ·光学系统 | 第19-20页 |
| ·光刻胶显影 | 第20-21页 |
| ·蚀刻 | 第21页 |
| ·掩模设计因素和限制 | 第21-23页 |
| ·精确度/CD | 第21-22页 |
| ·曝光和离焦 | 第22-23页 |
| 第三章 问题的提出与基本想法 | 第23-26页 |
| ·研究背景介绍 | 第23-25页 |
| ·问题描述和研究目标 | 第25-26页 |
| 第四章 技术难点与解决方案 | 第26-34页 |
| ·图形间的相互影响问题 | 第26-27页 |
| ·目前国际学术界和工业界提出的解决方案 | 第27-29页 |
| ·辅助图形插入法 | 第27-28页 |
| ·局部修正法 | 第28-29页 |
| ·本文中提出的基于Cell的OPC处理方法 | 第29-34页 |
| ·动态调整算法 | 第29-31页 |
| ·观察图形间相互影响的方法—Segment-Moving Map | 第31-33页 |
| ·误差分析方法 | 第33-34页 |
| 第五章 算法与实现细节 | 第34-46页 |
| ·具体流程和实现方式 | 第34-44页 |
| ·基于Cell的OPC处理流程图 | 第34页 |
| ·基于Cell的OPC处理实现细节 | 第34-44页 |
| ·算法的伪码表示与复杂度分析 | 第44-46页 |
| ·基于Cell的OPC算法的伪码表示 | 第44-45页 |
| ·算法复杂度分析 | 第45-46页 |
| 第六章 实验结果与讨论 | 第46-52页 |
| ·实验参数设定 | 第46页 |
| ·实验过程与仿真结果 | 第46-49页 |
| ·实验数据与分析讨论 | 第49-52页 |
| 第七章 应用前景与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 致谢 | 第58页 |