单晶生长用永磁可变磁场系统设计
| 第一章 绪论 | 第1-10页 |
| §1-1 永磁磁场直拉法的提山及意义 | 第7-8页 |
| §1-2 单晶生长用永磁磁场发展现状 | 第8-9页 |
| §1-3 论文主要研究内容 | 第9-10页 |
| 第二章 磁场抑制坩埚对流的原理 | 第10-18页 |
| §2-1 单晶生长过程中坩埚熔体的对流 | 第10-12页 |
| §2-2 单晶生长过程中杂质输运与分凝 | 第12-14页 |
| 2-2-1 熔体中氧的来源及浓度 | 第12-13页 |
| 2-2-2 熔体中杂质的输运和分凝 | 第13-14页 |
| §2-3 磁场抑制熔体对流的原理 | 第14-17页 |
| §2-4 本章小结 | 第17-18页 |
| 第三章 永磁磁场的设计及磁场计算 | 第18-36页 |
| §3-1 永磁磁场的设计方案 | 第18-21页 |
| 3-1-1 单环永磁结构 | 第18-20页 |
| 3-1-2 双环永磁结构 | 第20-21页 |
| §3-2 永磁磁场的计算 | 第21-35页 |
| 3-2-1 ANSYS有限元软件概述 | 第21-22页 |
| 3-2-2 永磁磁场的计算 | 第22-26页 |
| 3-2-3 单环永磁结构参数确定及磁场分布 | 第26-28页 |
| 3-2-4 双环永磁结构参数确定及磁场分布 | 第28-35页 |
| §3-3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 永磁可变磁场结构设计与磁场自动调节的实现 | 第36-42页 |
| §4-1 永磁可变磁场机械结构设计 | 第36-38页 |
| §4-2 磁场自动调节功能的实现 | 第38-41页 |
| 4-2-1 磁场自动调节系统简介 | 第38-39页 |
| 4-2-2 磁场大小自动调节的实现 | 第39-40页 |
| 4-2-3 磁场旋转调节 | 第40-41页 |
| 4-2-3 上位机监控系统 | 第41页 |
| §4-3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 结论 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
