深紫外浸没式光刻投影物镜设计
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 论文研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 深紫外浸没式光刻投影物镜国内外研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 深紫外浸没式光刻投影物镜国外研究现状 | 第12-17页 |
| 1.2.2 深紫外浸没式光刻投影物镜国内研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3 本论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 深紫外浸没式光刻投影物镜设计原理 | 第19-33页 |
| 2.1 深紫外浸没式光刻投影物镜成像特性 | 第19-23页 |
| 2.2 深紫外浸没式光刻投影物镜像质评价方法 | 第23-32页 |
| 2.2.1 深紫外浸没式光刻投影物镜分辨率 | 第23-25页 |
| 2.2.2 深紫外浸没式光刻投影物镜波像差 | 第25-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 深紫外浸没式光刻投影物镜设计 | 第33-54页 |
| 3.1 深紫外浸没式光刻投影物镜设计指标 | 第33-34页 |
| 3.2 深紫外浸没式光刻投影物镜工作光源 | 第34-36页 |
| 3.3 深紫外浸没式光刻投影物镜光学材料 | 第36-41页 |
| 3.3.1 深紫外光学材料要求 | 第36-38页 |
| 3.3.2 融石英光学特性 | 第38-41页 |
| 3.4 大数值孔径光刻投影物镜光学结构 | 第41-51页 |
| 3.4.1 大数值孔径光刻投影物镜光学结构分析 | 第42-50页 |
| 3.4.2 深紫外浸没式光刻投影物镜结构设计 | 第50-51页 |
| 3.5 深紫外浸没式光刻投影物镜设计结果 | 第51-53页 |
| 3.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 光刻投影物镜像质评价与公差分析 | 第54-69页 |
| 4.1 深紫外浸没式光刻投影物镜像质评价 | 第54-62页 |
| 4.1.1 投影物镜波像差分析 | 第54-57页 |
| 4.1.2 光刻投影物镜场曲与畸变分析 | 第57-59页 |
| 4.1.3 光刻投影物镜非球面元件分析 | 第59-61页 |
| 4.1.4 光刻投影物镜各个镜面最大入射角 | 第61-62页 |
| 4.2 深紫外浸没式光刻投影物镜关键元件公差分析 | 第62-68页 |
| 4.2.1 投影物镜反射元件公差分析 | 第62-66页 |
| 4.2.2 投影物镜浸没液体公差分析 | 第66-67页 |
| 4.2.3 投影物镜成像仿真 | 第67-68页 |
| 4.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 个人简历 | 第76页 |
