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高精度激光直写中光束控制的研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 绪论第11-19页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第11-12页
    1.2 激光直写技术简介第12-13页
    1.3 光束对激光直写质量的影响第13-14页
        1.3.1 高斯光束光刻第13页
        1.3.2 平顶光束光刻第13-14页
    1.4 国内外光束整形技术发展现状第14-17页
    1.5 本文的主要研究内容第17-19页
第2章 激光直写光束整形理论基础第19-38页
    2.1 引言第19页
    2.2 光衍射的基础理论第19-22页
        2.2.1 惠更斯-菲涅耳原理第19-20页
        2.2.2 菲涅耳衍射和夫琅禾费衍射第20-21页
        2.2.3 Chirp-Z变换第21-22页
    2.3 光束整形的优化算法第22-31页
        2.3.1 Gerchberg-Saxton算法第22-24页
        2.3.2 模拟退火算法第24-27页
        2.3.3 改进的迭代傅里叶变换算法第27-29页
        2.3.4 改进的退火-迭代傅里叶变换算法第29-31页
    2.4 算法的仿真分析第31-37页
    2.5 本章小结第37-38页
第3章 平顶光束激光直写实验系统第38-48页
    3.1 引言第38页
    3.2 光束整形直写验证实验光路设计第38-39页
    3.3 液晶空间光调制器第39-41页
        3.3.1 液晶相位调制原理第40-41页
    3.4 基于SAFI算法的平顶光束第41-47页
        3.4.1 平顶光束目标函数第41-43页
        3.4.2 SAFI算法调制入射光束第43-47页
    3.5 本章小结第47-48页
第4章 液晶空间光调制器调制性能的测定第48-55页
    4.1 引言第48页
    4.2 相位测量的基本原理第48-50页
    4.3 衍射谱最小能量法第50-51页
    4.4 相位-灰度特性曲线标定实验第51-54页
    4.5 本章小结第54-55页
第5章 光束整形激光直写验证装置及测试实验第55-68页
    5.1 引言第55页
    5.2 直写线条质量的影响因素研究第55-59页
        5.2.1 光刻胶膜层厚度对曝光的影响第55-57页
        5.2.2 涂布实验确定工艺参数第57-59页
    5.3 平顶光束调制效果验证实验第59-62页
    5.4 高斯光束整形激光直写验证装置光刻实验第62-67页
        5.4.1 高斯光束整形激光直写实验调试第62-64页
        5.4.2 实验结果分析第64-67页
    5.5 本章小结第67-68页
结论第68-70页
参考文献第70-74页
读硕士学位期间发表的论文及其它成果第74-76页
致谢第76页

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