| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述——ZnO系材料及器件研究现状与进展 | 第12-36页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·ZnO基本性质 | 第12-17页 |
| ·ZnO晶体结构与能带结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO电学性质与光学性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO其他性质 | 第16-17页 |
| ·ZnO的PN结电致发光器件 | 第17-22页 |
| ·ZnO随机激射发光器件 | 第22-29页 |
| ·ZnO光泵浦随机激光 | 第22-26页 |
| ·ZnO电泵浦随机激光器件 | 第26-29页 |
| ·CdZnO合金材料与器件 | 第29-34页 |
| ·CdZnO合金材料研究现状 | 第29-32页 |
| ·CdZnO合金相关器件研究现状 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-36页 |
| 第三章 材料制备与测试设备 | 第36-38页 |
| ·材料与器件制备设备 | 第36-37页 |
| ·直流反应磁控溅射设备 | 第36页 |
| ·射频反应磁控溅射设备 | 第36页 |
| ·材料热处理设备 | 第36-37页 |
| ·材料与器件的测试表征设备 | 第37-38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第37页 |
| ·透射电子显微镜 | 第37页 |
| ·X射线衍射仪 | 第37页 |
| ·光学性能测试仪 | 第37页 |
| ·X-射线光电子能谱 | 第37页 |
| ·电学性能测试仪 | 第37-38页 |
| 第四章 快速热处理对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第38-46页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·硅基ZnO薄膜的制备 | 第38-39页 |
| ·硅基ZnO薄膜快速热处理工艺 | 第39页 |
| ·快速热处理对ZnO薄膜紫外发光强度的影响 | 第39-44页 |
| ·快速热处理温度对ZnO薄膜紫外发光强度的影响 | 第39-42页 |
| ·快速热处理气氛对ZnO薄膜紫外发光强度的影响 | 第42-43页 |
| ·RTA气氛影响ZnO光致发光强度的理论解释 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第五章 硅基ZnO-MIS器件产生随机激光的临界SiO_2厚度的研究 | 第46-52页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·器件制备 | 第46-47页 |
| ·不同SiO_2势垒层厚度的ZnO-MIS器件能带图与电致发光 | 第47-48页 |
| ·不同绝缘层厚度的MIS器件电致发光与电流电压特性 | 第48-49页 |
| ·SiO_2薄膜表征 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第六章 硅基CdZnO薄膜的光致发光及CdZnO异质结的电致发光 | 第52-64页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·CdZnO薄膜与器件制备 | 第52-54页 |
| ·不同RTA热处理条件对CdZnO薄膜光致发光及结构形貌的影响 | 第54-61页 |
| ·不同热处理温度对CdZnO薄膜光致发光及结构形貌的影响 | 第54-57页 |
| ·不同热处理时间对CdZnO薄膜光致发光及结构形貌的影响 | 第57-60页 |
| ·不同热处理气氛对CdZnO薄膜光致发光的影响 | 第60-61页 |
| ·CdZnO/SiO_2(MgO)/P+-Si异质结的电致发光和电流-电压特性 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第七章 总结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
| 个人简历 | 第76-78页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第78页 |
