摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-30页 |
·引言 | 第12-13页 |
·节能玻璃镀膜材料的研究概述 | 第13-19页 |
·阳光控制镀膜玻璃 | 第14-16页 |
·阳光控制玻璃的节能原理 | 第14-15页 |
·阳光控制膜的膜层结构和材料 | 第15-16页 |
·低辐射镀膜玻璃 | 第16-19页 |
·低辐射玻璃的节能原理 | 第16-17页 |
·低辐射膜的膜层结构和材料 | 第17-19页 |
·镀膜玻璃的制备方法 | 第19-23页 |
·凝胶浸渍镀膜 | 第19页 |
·真空镀膜 | 第19-20页 |
·热喷涂镀膜 | 第20页 |
·电浮法镀膜 | 第20-21页 |
·溅射镀膜 | 第21页 |
·电泳沉积镀膜 | 第21-22页 |
·化学气相沉积镀膜 | 第22-23页 |
·TiN及TiC的结构和性能 | 第23-27页 |
·TiN的结构 | 第23-24页 |
·TiN的电学和光学性能 | 第24-25页 |
·非化学计量TiN薄膜 | 第25-26页 |
·TiC的结构和性能 | 第26-27页 |
·TiN及Tic节能薄膜的研究现状 | 第27-28页 |
·TiN节能薄膜的研究现状 | 第27-28页 |
·TiC节能薄膜的研究现状 | 第28页 |
·课题的提出 | 第28-30页 |
第二章 实验部分 | 第30-40页 |
·氮化钛薄膜的制备 | 第30-34页 |
·实验设备和原料 | 第30-33页 |
·氮化钛薄膜的制备步骤 | 第33-34页 |
·基片清洗 | 第33页 |
·气相沉积过程 | 第33-34页 |
·样品的相关沉积参数 | 第34页 |
·碳化钛薄膜的制备 | 第34-36页 |
·实验所用原料和设备 | 第34-35页 |
·碳化钛薄膜的制备步骤 | 第35-36页 |
·基片清洗 | 第35页 |
·薄膜的制备 | 第35-36页 |
·样品的测试与分析手段 | 第36-40页 |
·X射线衍射仪 | 第36-37页 |
·场发射扫描电镜 | 第37页 |
·X射线能量散射谱 | 第37页 |
·四探针电阻测试仪 | 第37页 |
·UV/Vis分光光度计 | 第37-40页 |
第三章 非化学计量TiN节能镀膜玻璃的制备及其性能研究 | 第40-52页 |
·氨气流量对氮化钛薄膜的组分和结构的影响 | 第40-46页 |
·氨气流量对氮化钛薄膜的组分和结晶性能的影响 | 第41-43页 |
·氨气流量对氮化钛薄膜的微观形貌的影响 | 第43-46页 |
·氨气流量对氮化钛薄膜电学性能的影响 | 第46-47页 |
·氨气流量对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-52页 |
第四章 V掺杂的非化学计量TiN节能镀膜玻璃的制备及其性能研究 | 第52-60页 |
·氨气流量对掺钒的氮化钛薄膜的组分和结构的影响 | 第52-55页 |
·氨气流量对掺钒的氮化钛薄膜的组分和结晶性能的影响 | 第52-54页 |
·氨气流量对掺钒的氮化钛薄膜微观结构的影响 | 第54-55页 |
·氨气流量对掺钒的氮化钛薄膜电学性能的影响 | 第55-56页 |
·氨气流量对掺钒的氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第56-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第五章 碳化钛薄膜的制备及其性能研究 | 第60-72页 |
·不同pH下碳化钛料浆的制备 | 第60-61页 |
·碳化钛薄膜的成膜性能研究 | 第61-64页 |
·不同配方下碳化钛薄膜的制备 | 第61-62页 |
·不同配方下碳化钛薄膜的形貌 | 第62-63页 |
·不同配方下碳化钛薄膜的光学性能 | 第63-64页 |
·不同热处理温度下碳化钛薄膜的制备和性能研究 | 第64-67页 |
·不同热处理温度下碳化钛薄膜的制备 | 第64-65页 |
·不同热处理温度下碳化钛薄膜的形貌 | 第65-66页 |
·不同热处理时间下碳化钛薄膜的光电性能 | 第66-67页 |
·不同PVP含量下和溶液滴加量下碳化钛薄膜的制备和性能研究 | 第67-69页 |
·不同PVP含量下和溶液滴加量下碳化钛薄膜的制备 | 第67-68页 |
·不同PVP含量下和溶液滴加量下碳化钛薄膜光电性质 | 第68-69页 |
·本章小结 | 第69-72页 |
第六章 结论和展望 | 第72-74页 |
·结论 | 第72-73页 |
·展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
个人简历 | 第81-82页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第82页 |